特許

J-GLOBAL ID：201503005851380987

研磨用組成物

発明者： 玉田 修一 ,  鎗田 哲
出願人/特許権者： 株式会社フジミインコーポレーテッド
代理人 (1件)： 八田国際特許業務法人
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP2013056636
公開番号（公開出願番号）：WO2013-137192
出願日： 2013年03月11日
公開日（公表日）： 2013年09月19日
要約：

本発明は、IV族材料を含有する部分を有する研磨対象物を研磨した際、エッチングを原因とした段差が研磨対象物の表面に生じることを抑えることができる研磨用組成物を提供する。本発明は、IV族材料を含有する部分を有する研磨対象物を研磨する用途で使用される研磨用組成物であって、酸化剤と防食剤とを含有する研磨用組成物である。防食剤は、分子内に含有される2個以上のカルボニル基が分子内で炭素原子を介して結合した化合物からなる群より選択される少なくとも1種であることが好ましい。より具体的には、1,3-ジケトン化合物、1,4-ジケトン化合物およびトリケトン化合物からなる群より選択される少なくとも1種であることが好ましい。

請求項（抜粋）：

IV族材料を含有する部分を有する研磨対象物を研磨する用途で使用される研磨用組成物であって、酸化剤と防食剤とを含有する、研磨用組成物。

IPC (3件)：

C09K 3/14 ,  H01L 21/304 ,  B24B 37/00

FI (4件)：

C09K3/14 550Z ,  H01L21/304 622C ,  H01L21/304 622D ,  B24B37/00 H

Fターム (25件)：

3C158AA07 ,  3C158CA04 ,  3C158CB02 ,  3C158CB03 ,  3C158DA02 ,  3C158DA17 ,  3C158EA11 ,  3C158EB01 ,  3C158ED01 ,  3C158ED21 ,  3C158ED22 ,  3C158ED23 ,  3C158ED24 ,  3C158ED26 ,  5F057AA02 ,  5F057AA14 ,  5F057BA11 ,  5F057BB01 ,  5F057BB03 ,  5F057CA11 ,  5F057DA03 ,  5F057EA03 ,  5F057EA22 ,  5F057EA25 ,  5F057EA31