特許

J-GLOBAL ID：201503006362387452

焼成装置及びその制御方法

発明者： 渡邉 正賢 ,  渡▲邉▼ 茂雄 ,  後和 昭典 ,  田村 真一
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (2件)： 磯野 道造 ,  多田 悦夫
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-155003
公開番号（公開出願番号）：特開2014-015363
特許番号：特許第5810043号
出願日： 2012年07月10日
公開日（公表日）： 2014年01月30日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 発光パネルのガラス基板に形成された発光面の周囲に、閉図形となる塗布パターンを描画するように連続して塗布されたペースト状の液体材料に照射されるレーザ光を発射するレーザ光源と、 前記液体材料が塗布された前記ガラス基板と前記レーザ光源を相対的に移動させる移動装置と、 前記移動装置を制御する制御装置と、を備え、 前記制御装置は、 前記塗布パターン上に設定された照射開始点から当該塗布パターンに沿って前記レーザ光が前記液体材料に照射されるように前記移動装置を制御して前記ガラス基板と前記レーザ光源を相対的に移動させ、 前記塗布パターンの全周に亘って前記レーザ光が照射された後で前記照射開始点が前記レーザ光で再度照射されたときに、前記移動装置を制御して前記塗布パターンを外れた位置に前記レーザ光が照射されるように前記ガラス基板と前記レーザ光源を相対的に移動させることを特徴とする焼成装置。

IPC (5件)：

C03C 27/06 ( 200 6.01) ,  B23K 26/00 ( 201 4.01) ,  H05B 33/04 ( 200 6.01) ,  H01L 51/50 ( 200 6.01) ,  H05B 33/10 ( 200 6.01)

FI (5件)：

C03C 27/06 101 A ,  B23K 26/00 G ,  H05B 33/04 ,  H05B 33/14 A ,  H05B 33/10