特許

J-GLOBAL ID：201503006984631679

水素供給システム

発明者： 古田 智史
出願人/特許権者： JX日鉱日石エネルギー株式会社
代理人 (5件)： 長谷川 芳樹 ,  黒木 義樹 ,  清水 義憲 ,  平野 裕之 ,  柳 康樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-112561
公開番号（公開出願番号）：特開2015-227258
出願日： 2014年05月30日
公開日（公表日）： 2015年12月17日
要約：

【課題】新たな原料を補給することなく、水素を供給し続けることが可能な水素供給システムを提供する。【解決手段】本実施形態に係る水素供給システム100では、気液分離器4にて水素含有ガスから分離されてトルエンタンクに貯蔵されたトルエン(脱水素生成物)が、水素化装置20にて水素化される。これによって、トルエンは、再び脱水素反応器3での脱水素反応によって水素含有ガスを得ることが可能なMCH(原料)として用いることが可能となる。また、水素化装置20は、水素ガスを発生させることなく脱水素生成物を水素化することにより、水素ガスを発生させるための装置を不要とし、効率よく水素化を行うことができる。このようにトルエンを水素化してMCHとしてMCHタンク1へ供給することによって、オンサイトで原料を得ることが可能となる。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

水素の供給を行う水素供給システムであって、 原料を脱水素反応させることによって水素含有ガスを得る脱水素反応部と、 前記水素含有ガスから脱水素生成物を分離する気液分離部と、 前記気液分離部で分離された前記水素含有ガスから前記脱水素生成物を除去し、精製ガスを得る水素精製部と、 前記気液分離部で分離された前記脱水素生成物を、水素ガスを発生させることなく水素化し、前記原料として前記脱水素反応部の上流側へ供給する水素化部と、を備える水素供給システム。

IPC (7件)：

C01B 3/00 ,  C01B 3/26 ,  C01B 3/56 ,  C01B 3/04 ,  C25B 3/04 ,  C25B 9/00 ,  C25B 11/06

FI (8件)：

C01B3/00 Z ,  C01B3/26 ,  C01B3/56 Z ,  C01B3/04 A ,  C25B3/04 ,  C25B9/00 G ,  C25B9/00 H ,  C25B11/06 A

Fターム (22件)：

4G140AB01 ,  4G140DA03 ,  4G140DB05 ,  4G140FA02 ,  4G140FB05 ,  4G140FC01 ,  4G140FE01 ,  4K011AA24 ,  4K011AA29 ,  4K011DA01 ,  4K021AA01 ,  4K021AC02 ,  4K021BA02 ,  4K021BA11 ,  4K021BC08 ,  4K021CA03 ,  4K021DB19 ,  4K021DB20 ,  4K021DB21 ,  4K021DB31 ,  4K021DB53 ,  4K021DC01