特許
J-GLOBAL ID：201503007002085478
感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、それを用いた感活性光線性又は感放射線性膜及びパターン形成方法、半導体デバイスの製造方法及び半導体デバイス、並びに、化合物
発明者：
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (17件)：
蔵田 昌俊
, 高倉 成男
, 河野 哲
, 中村 誠
, 福原 淑弘
, 峰 隆司
, 白根 俊郎
, 村松 貞男
, 野河 信久
, 幸長 保次郎
, 河野 直樹
, 砂川 克
, 井関 守三
, 佐藤 立志
, 岡田 貴志
, 堀内 美保子
, 竹内 将訓
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-023486
公開番号（公開出願番号）：特開2013-160955
特許番号：特許第5740322号
出願日： 2012年02月06日
公開日（公表日）： 2013年08月19日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 活性光線または放射線の照射により、一般式(I)で表される酸を発生する化合物を含有することを特徴とする感活性光線性または感放射線性樹脂組成物。
式中、
L1は、-O-又は-S-を表す。
Ar1は、アリール基を表す。
R1は、一価の置換基を表す。ただし、R1の少なくとも1つは2以上の炭素原子を含む基を表し、nが2以上である場合、R1はそれぞれが同一でも異なっていてもよく、複数のR1が連結して環を形成してもよい。
mは、1〜4の整数を表す。
nは、1〜5の整数を表す。
IPC (3件)：
G03F 7/004 ( 200 6.01)
, G03F 7/039 ( 200 6.01)
, H01L 21/027 ( 200 6.01)
G03F 7/004 503 A
, G03F 7/039 601
, H01L 21/30 502 R
