特許

J-GLOBAL ID：201503007740422756

細胞の長期還流培養のための方法及び装置

発明者： 渋谷 望 ,  日下 孝司 ,  松下 琢
出願人/特許権者： 三菱レイヨン株式会社
代理人 (3件)： 田中 玲子 ,  松任谷 優子 ,  梅田 慎介
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-109732
公開番号（公開出願番号）：特開2015-223111
出願日： 2014年05月28日
公開日（公表日）： 2015年12月14日
要約：

【課題】高密度化した細胞を、機能を維持したまま、長期に維持培養するための技術の提供。【解決手段】培地供給用及びガス供給用の中空糸膜と、該中空糸膜外表面上及び/又は該中空糸膜間に配設された繊維成形体からなる細胞培養足場材料とを培養空間内に備えた細胞培養用モジュールを用いる、細胞の長期還流培養方法であって、培地供給用中空糸膜により培地を下記式で算出される供給係数2〜10で前記培養空間内に循環供給し、ガス供給用中空糸膜によりガスを供給係数250〜17,000で前記培養空間内に供給することを特徴とする方法を提供する。 供給係数=培養空間容積(ml)/培地又はガスの供給速度(ml/min)【選択図】なし

請求項（抜粋）：

培地供給用及びガス供給用の中空糸膜と、該中空糸膜外表面上及び/又は該中空糸膜間に配設された繊維成形体からなる細胞培養足場材料とを培養空間内に備えた細胞培養用モジュールを用いる、細胞の長期還流培養方法であって、 培地供給用中空糸膜により培地を下記式で算出される供給係数2〜10で前記培養空間内に循環供給する、方法。 供給係数=培地又はガスの供給速度(ml/min)/培養空間容積(ml)

IPC (3件)：

C12N 5/071 ,  C12M 3/00 ,  C12N 1/00

FI (3件)：

C12N5/00 202A ,  C12M3/00 A ,  C12N1/00 A

Fターム (9件)：

4B029AA02 ,  4B029AA08 ,  4B029BB11 ,  4B029CC02 ,  4B029GA02 ,  4B065AA90X ,  4B065BC22 ,  4B065BC41 ,  4B065CA46