特許

J-GLOBAL ID：201503007996864942

光学積層体の製造方法

発明者： 國方 智 ,  山本 佳史 ,  山崎 達也 ,  出▲崎▼ 忍
出願人/特許権者： 日東電工株式会社
代理人 (1件)： 籾井 孝文
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-266473
公開番号（公開出願番号）：特開2015-120313
出願日： 2013年12月25日
公開日（公表日）： 2015年07月02日
要約：

【課題】シワのない、外観に優れた光学積層体の製造方法を提供する。【解決手段】樹脂基材11と樹脂基材の片側に塗布形成された第1の光学機能層12とを有する積層体10を作製する工程と;積層体の第1の光学機能層に光学機能フィルム21を積層して第2の光学機能層を形成する工程とを含む光学積層体の製造方法。積層体及び光学機能フィルムの少なくとも一方にナーリングが形成された状態で、積層体と光学機能フィルムとを積層する製造方法。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

樹脂基材と該樹脂基材の片側に塗布形成された第1の光学機能層とを有する積層体を作製する工程と、 該積層体の第1の光学機能層に光学機能フィルムを積層して第2の光学機能層を形成する工程と、を含み、 該積層体および該光学機能フィルムの少なくとも一方にナーリングが形成された状態で、該積層体と該光学機能フィルムとを積層する、 光学積層体の製造方法。

IPC (3件)：

B32B 27/30 ,  G02B 5/30 ,  B32B 7/02

FI (4件)：

B32B27/30 A ,  G02B5/30 ,  B32B27/30 102 ,  B32B7/02 103

Fターム (26件)：

2H149AA02 ,  2H149AB18 ,  2H149BB24 ,  2H149DA02 ,  2H149DB22 ,  2H149EA05 ,  2H149EA12 ,  2H149FA03W ,  2H149FA08X ,  2H149FD47 ,  4F100AK21B ,  4F100AK24C ,  4F100AK41A ,  4F100AT00A ,  4F100BA03 ,  4F100BA07 ,  4F100CB04 ,  4F100DB02 ,  4F100EC18C ,  4F100EH01C ,  4F100EH46B ,  4F100EJ54 ,  4F100GB41 ,  4F100GB48 ,  4F100JN10 ,  4F100JN30

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 反射防止フィルム
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2009-064133   出願人：コニカミノルタオプト株式会社