特許

J-GLOBAL ID：201503008513307009

プラズマ殺菌装置

発明者： 柳生 義人
出願人/特許権者： 独立行政法人国立高等専門学校機構
代理人 (1件)： 平井 安雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-101544
公開番号（公開出願番号）：特開2015-217028
出願日： 2014年05月15日
公開日（公表日）： 2015年12月07日
要約：

【課題】プラズマ放電ガス領域の大面積化及び安定性を格段に向上させることによって、殺菌対象物を効率的に殺菌するプラズマ殺菌装置の提供。【解決手段】プラズマ殺菌装置10は、対向する電極間に原料ガスAを供給してプラズマ放電を発生させ、このプラズマ放電を用いて殺菌対象物を殺菌するプラズマ殺菌装置において、複数の供給口11からなり、複数の供給口11から原料ガスAを供給する原料ガス供給手段と、原料ガス供給手段の供給口11が配設される二次元平面の近傍で、均一な間隔で配設される供給口11に沿って形成される高電位電極2aと、高電位電極2aに沿って配設される低電位電極2bと、高電位電極2a及び/又は低電位電極2bに交流電圧を印加する印加手段3とを備え、印加手段3により交流電圧が印加された高電位電極2aと低電位電極2bとで形成される電場に供給口11から原料ガスAを放出し、殺菌対象物を損傷することなく殺菌する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

対向する電極間に原料ガスを供給してプラズマ放電を発生させ、当該プラズマ放電を用いて殺菌対象物を殺菌するプラズマ殺菌装置において、 互いに均一な間隔で二次元平面上に配設される複数の供給口からなり、当該複数の供給口から前記原料ガスを供給する原料ガス供給手段と、 前記原料ガス供給手段の供給口が配設される二次元平面の近傍で、均一な間隔で配設される当該供給口に沿って形成される高電位電極と、 前記高電位電極に沿って配設される低電位電極と、 前記高電位電極及び/又は低電位電極に交流電圧を印加する印加手段とを備え、 前記印加手段により交流電圧が印加された前記高電位電極と前記低電位電極とで形成される電場に前記供給口から前記原料ガスを放出することを特徴とする プラズマ殺菌装置。

IPC (4件)：

A61L 2/14 ,  H05H 1/24 ,  A01M 1/22 ,  A01G 13/10

FI (4件)：

A61L2/14 ,  H05H1/24 ,  A01M1/22 Z ,  A01G13/10

Fターム (15件)：

2B024GA10 ,  2B121AA11 ,  2B121CC02 ,  2B121CC03 ,  2B121CC37 ,  2B121DA06 ,  2B121EA21 ,  4B021LP10 ,  4B021LT01 ,  4B021LW02 ,  4B021MC01 ,  4C058AA21 ,  4C058BB06 ,  4C058KK06 ,  4C058KK22