特許
J-GLOBAL ID:201503008763686048

フィラメントの製造方法、および、フィラメント

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 特許業務法人 山王坂特許事務所
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2014-052617
公開番号(公開出願番号):特開2015-176769
出願日: 2014年03月14日
公開日(公表日): 2015年10月05日
要約:
【課題】誘電体膜を備えたフィラメントであって、フィラメントを加熱しても、安定した放射特性が得ることができるフィラメントの製造方法を提供する。【解決手段】室温における安定な結晶構造が単斜晶系であって温度によって正方晶系に相転移する誘電体材料により、アモルファスな誘電体膜20を、金属からなる基材10の表面に形成する(成膜工程)。つぎに、アモルファスな誘電体膜20を加熱することにより、単斜晶系を経ることなく、正方晶系、または、正方晶系および立法晶系の混合状態に結晶構造を変化させ、これにより室温における結晶構造が正方晶系、または、正方晶系および立法晶系の混合状態の誘電体膜20を形成する(加熱工程)。単斜晶系から正方晶系への相転移を経ることがないため、体積膨張収縮によるひび割れを生じない。【選択図】図1
請求項(抜粋):
誘電体材料により、アモルファスな誘電体膜を、金属からなる基材の表面に形成する成膜工程と、 前記アモルファスな誘電体膜を加熱することにより、単斜晶系を経ることなく、正方晶系、または、正方晶系および立法晶系の混合状態に結晶構造を変化させ、室温における結晶構造が正方晶系、または、正方晶系および立法晶系の混合状態の誘電体膜を形成する加熱工程とを含むことを特徴とするフィラメントの製造方法。
IPC (2件):
H01K 3/02 ,  H01K 1/10
FI (2件):
H01K3/02 A ,  H01K1/10

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