特許

J-GLOBAL ID：201503009025889070

感放射線性樹脂組成物、レジストパターン形成方法、感放射線性酸発生剤及び化合物

発明者： 生井 準人
出願人/特許権者： JSR株式会社
代理人 (9件)： 天野 一規 ,  池田 義典 ,  小川 博生 ,  石田 耕治 ,  各務 幸樹 ,  根木 義明 ,  川端 和也 ,  塩谷 隆嗣 ,  藤中 賢一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-218752
公開番号（公開出願番号）：特開2015-081960
出願日： 2013年10月21日
公開日（公表日）： 2015年04月27日
要約：

【課題】優れたMEEF性能、焦点深度及び露光余裕度を発揮しつつ、LWR性能、CDU性能、解像性及び断面形状の矩形性に優れるレジストパターンを形成できる感放射線性樹脂組成物を提供する。【解決手段】酸解離性基を含む構造単位を有する重合体、及び第1感放射線性酸発生剤を含有し、上記第1感放射線性酸発生剤が、下記式(1)である感放射線性樹脂組成物。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

酸解離性基を含む構造単位を有する重合体、及び 第1感放射線性酸発生剤 を含有し、 上記第1感放射線性酸発生剤が、下記式(1)で表される化合物からなる感放射線性樹脂組成物。

IPC (5件)：

G03F 7/004 ,  G03F 7/038 ,  G03F 7/039 ,  H01L 21/027 ,  C08F 220/10

FI (5件)：

G03F7/004 503A ,  G03F7/038 601 ,  G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R ,  C08F220/10

Fターム (62件)：

2H125AF17P ,  2H125AF38P ,  2H125AF41P ,  2H125AF70P ,  2H125AH15 ,  2H125AH16 ,  2H125AH17 ,  2H125AH19 ,  2H125AH24 ,  2H125AH29 ,  2H125AJ14X ,  2H125AJ14Y ,  2H125AJ43Y ,  2H125AJ65X ,  2H125AJ69X ,  2H125AN38P ,  2H125AN42P ,  2H125AN63P ,  2H125AN65P ,  2H125AN88P ,  2H125BA01P ,  2H125BA26P ,  2H125CA12 ,  2H125CB09 ,  2H125CB16 ,  2H125CC01 ,  2H125CC03 ,  2H125CC15 ,  2H125FA03 ,  2H125FA05 ,  4J100AB07P ,  4J100AB07R ,  4J100AL03P ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08S ,  4J100BA02P ,  4J100BA02Q ,  4J100BA03Q ,  4J100BA03R ,  4J100BA04P ,  4J100BA11Q ,  4J100BA40Q ,  4J100BA50Q ,  4J100BB10S ,  4J100BC02P ,  4J100BC03P ,  4J100BC04P ,  4J100BC08P ,  4J100BC08Q ,  4J100BC09P ,  4J100BC09Q ,  4J100BC12P ,  4J100BC53Q ,  4J100BC60Q ,  4J100CA03 ,  4J100DA01 ,  4J100FA03 ,  4J100FA19 ,  4J100GC35 ,  4J100JA37 ,  4J100JA38