特許

J-GLOBAL ID：201503009132905240

撮像素子、製造装置、電子機器

発明者： 大塚 洋一 ,  納土 晋一郎
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (2件)： 西川 孝 ,  稲本 義雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-158402
公開番号（公開出願番号）：特開2015-167219
出願日： 2014年08月04日
公開日（公表日）： 2015年09月24日
要約：

【課題】画素サイズが大きい場合でも、光学混色やフレアを低減させる。【解決手段】受光領域に形成された複数の単位画素と、単位画素同士の境界部分に形成された遮光膜と、単位画素毎に形成されたマイクロレンズとを備え、単位画素は、1.98μm以上の略正方格子であり、マイクロレンズは、単位画素毎に、一辺が1.98μm未満の略正方形で、2以上の自然数の2乗個形成されている。遮光膜は、マイクロレンズ同士の境界部分にも、さらに形成されている。本技術は、画素サイズが大きい撮像装置に適用できる。【選択図】図15

請求項（抜粋）：

受光領域に形成された複数の単位画素と、 前記単位画素同士の境界部分に形成された遮光膜と、 前記単位画素毎に形成されたマイクロレンズと を備え、 前記単位画素は、1.98μm以上の略正方格子であり、 前記マイクロレンズは、前記単位画素毎に、一辺が1.98μm未満の略正方形で、2以上の自然数の2乗個形成されている 撮像素子。

IPC (2件)：

H01L 27/14 ,  H04N 5/369

FI (2件)：

H01L27/14 D ,  H04N5/335 690

Fターム (26件)：

4M118AA05 ,  4M118AB01 ,  4M118AB02 ,  4M118BA14 ,  4M118CA02 ,  4M118FA06 ,  4M118FA26 ,  4M118GA02 ,  4M118GA08 ,  4M118GB03 ,  4M118GC08 ,  4M118GC11 ,  4M118GD03 ,  4M118GD04 ,  4M118GD06 ,  4M118GD07 ,  4M118GD15 ,  4M118GD16 ,  4M118GD20 ,  5C024AX01 ,  5C024CX11 ,  5C024CY47 ,  5C024EX43 ,  5C024GX03 ,  5C024GX24 ,  5C024GY31