特許

J-GLOBAL ID：201503009309104910

水耕栽培装置及び水耕栽培方法

発明者： 緒方 賢史
出願人/特許権者： パナソニックIPマネジメント株式会社
代理人 (4件)： 伊藤 正和 ,  細川 覚 ,  松本 隆芳 ,  森 太士
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-081747
公開番号（公開出願番号）：特開2015-202059
出願日： 2014年04月11日
公開日（公表日）： 2015年11月16日
要約：

【課題】植物体の地下部における結露を低減する水耕栽培装置を提供する。【解決手段】水耕栽培装置は、内部に植物体Pが保持され、下部に養液Fが導入される栽培槽1と、植物体Pの地上部P1が位置する第1の空間D1と植物体Pの地下部P2が位置する第2の空間D2とを仕切る仕切り部4と、第1の空間D1を、第1の期間において第1の温度、第2の期間において第1の温度より低い第2の温度に調節する植物育成条件に従って、第1の空間D1の環境を制御する環境制御部81と、植物育成条件に応じて第2の空間の湿度を制御する湿度制御部83とを備える。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

内部に植物体が保持され、下部に養液が導入される栽培槽と、 前記植物体の地上部が位置する第1の空間と前記植物体の地下部が位置する第2の空間とを仕切る仕切り部と、 前記第1の空間を、第1の期間において第1の温度、第2の期間において前記第1の温度より低い第2の温度に調節する植物育成条件に従って、前記第1の空間の環境を制御する環境制御部と、 前記植物育成条件に応じて前記第2の空間の湿度を制御する湿度制御部と を備えることを特徴とする水耕栽培装置。

IPC (3件)：

A01G 31/00 ,  A01G 7/00 ,  A01G 9/00

FI (4件)：

A01G31/00 612 ,  A01G7/00 601Z ,  A01G31/00 611Z ,  A01G9/00 J

Fターム (22件)：

2B022DA01 ,  2B022DA17 ,  2B022DA19 ,  2B022DA20 ,  2B314MA38 ,  2B314MA39 ,  2B314MA40 ,  2B314MA52 ,  2B314NA29 ,  2B314NA40 ,  2B314PD19 ,  2B314PD52 ,  2B314PD62 ,  2B314PD63 ,  2B327NC08 ,  2B327NC40 ,  2B327ND01 ,  2B327ND15 ,  2B327UB06 ,  2B327UB15 ,  2B327UB24 ,  2B327UB26

引用特許：

出願人引用 (2件)

• レタス栽培システムおよび方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2011-263472   出願人：三菱電機プラントエンジニアリング株式会社
• 植物栽培装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2011-194227   出願人：株式会社大気社