特許
J-GLOBAL ID:201503009421437077

不動態化層でコーティングされたシリコンウエハ

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件): 杉村 憲司 ,  吉田 憲悟 ,  高木 義和
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2015-515002
公開番号(公開出願番号):特表2015-525473
出願日: 2013年04月25日
公開日(公表日): 2015年09月03日
要約:
不動態化層でコーティングされたシリコンウエハの製造。コーティングされたシリコンウエハは、セルの前面に作用する光からのエネルギーを電気エネルギーに変換する太陽光セルにおける使用に好適である。
請求項(抜粋):
酸化シリコンの不動態化層でコーティングされたシリコンウエハの製造のためのプロセスであって、 (iii)5〜66%の炭素原子(水素を除く全原子に対する堆積層内の炭素原子の割合として計算される)を含有するシリコン化合物の少なくとも1050kg/m3の密度の層をシリコンウエハ基板上に堆積させる工程と、 (iv)1〜60秒間少なくとも600°Cの温度で酸素含有大気中のシリコン化合物の前記堆積層を熱処理し、前記処理中、前記堆積層が600〜1050°Cの範囲の最高温度に供される工程と、を含む、プロセス。
IPC (4件):
H01L 21/316 ,  C23C 16/42 ,  C23C 16/513 ,  H01L 31/021
FI (4件):
H01L21/316 P ,  C23C16/42 ,  C23C16/513 ,  H01L31/04 240
Fターム (26件):
4K030AA09 ,  4K030AA16 ,  4K030BA29 ,  4K030BA35 ,  4K030CA04 ,  4K030CA12 ,  4K030DA09 ,  4K030EA03 ,  4K030FA01 ,  4K030JA05 ,  4K030JA06 ,  4K030LA16 ,  5F058BC02 ,  5F058BC04 ,  5F058BC08 ,  5F058BD01 ,  5F058BD04 ,  5F058BD06 ,  5F058BD10 ,  5F058BF07 ,  5F058BF22 ,  5F058BF46 ,  5F058BH03 ,  5F151AA02 ,  5F151AA03 ,  5F151DA20

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