特許

J-GLOBAL ID：201503009442730431

プラズマ処理装置及び方法

発明者： 奥村 智洋
出願人/特許権者： パナソニック株式会社
代理人 (2件)： 徳田 佳昭 ,  野村 幸一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-144252
公開番号（公開出願番号）：特開2015-018654
出願日： 2013年07月10日
公開日（公表日）： 2015年01月29日
要約：

【課題】液中の気泡内にプラズマを発生させることによってプラズマ処理を行う装置及び方法において、電子密度が高く、体積が大きい液中プラズマを発生させることにより、高い反応速度を得ることができるプラズマ処理装置及び方法を提供することを目的とする。【解決手段】ガラス筒1、上フランジ2及び下フランジ3が密閉容器を構成している。また、ガス排気配管6、液体導入配管7、液体排出配管8が設けられている。コイル9はガラス筒1の周囲にソレノイド状に巻きつけられている。ガラス筒1中を水Wで満たし、ガス導入配管5からバブルリング発生器4に供給し、バブルリング10がコイル9に近い位置に到達したときに高周波電源12よりコイル9に高周波電力を供給することにより、バブルリング10内に誘導結合型の熱プラズマが発生し、水Wを高速で浄化できる。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

筒状の絶縁性容器と、前記容器の下方に設けられたバブルリング発生器と、前記バブルリング発生器にガスを供給するガス導入口と、前記容器からガスを排出するガス排出口と、前記容器の内部に高周波電磁界を発生させるコイルと、前記コイルに高周波電力を供給する高周波電源とを備えたこと、 を特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (3件)：

H05H 1/24 ,  B01J 19/08 ,  C02F 1/48

FI (3件)：

H05H1/24 ,  B01J19/08 E ,  C02F1/48 B

Fターム (22件)：

4D061DA08 ,  4D061DB01 ,  4D061DB09 ,  4D061EA15 ,  4D061EB01 ,  4D061EB17 ,  4D061EB39 ,  4D061ED06 ,  4D061GC11 ,  4G075AA15 ,  4G075AA61 ,  4G075BA05 ,  4G075BA10 ,  4G075BD27 ,  4G075CA03 ,  4G075CA47 ,  4G075DA02 ,  4G075EA05 ,  4G075EB41 ,  4G075EC25 ,  4G075FB06 ,  4G075FC15