特許

J-GLOBAL ID：201503009768768162

酸性ガス分離用積層体の製造方法、酸性ガス分離用積層体および酸性ガス分離モジュール

発明者： 油屋 吉宏 ,  平木 大介
出願人/特許権者： 富士フイルム株式会社
代理人 (4件)： 渡辺 望稔 ,  三和 晴子 ,  伊東 秀明 ,  三橋 史生
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-005768
公開番号（公開出願番号）：特開2015-134307
出願日： 2014年01月16日
公開日（公表日）： 2015年07月27日
要約：

【課題】酸性ガス分離層が多孔質支持体に入り込むことを防止でき、かつ、酸性ガス分離層の塗布液がはじかれることを防止し、シリコーン樹脂層と酸性ガス分離層との密着性を向上して耐久性が高い酸性ガス分離層を好適に製造することができる酸性ガス分離用積層体、分離モジュールおよび製造方法を提供する。【解決手段】複合体のシリコーン樹脂層上に酸性ガス分離層を形成する分離層形成工程を有し、分離層形成工程に供される複合体のシリコーン樹脂層の表面の突起の割合が0.1個/μm2〜50個/μm2であることにより、この課題を解決する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

多孔質支持体の表面の少なくとも一部にシリコーン樹脂層を付与した複合体と、前記シリコーン樹脂層上に形成される、酸性ガスと反応するキャリアおよび前記キャリアを担持する吸水性ポリマーを含む酸性ガス分離層とを含む酸性ガス分離用積層体の製造方法であって、 前記複合体の前記シリコーン樹脂層上に前記酸性ガス分離層を形成する分離層形成工程を有し、 前記分離層形成工程に供される前記複合体の前記シリコーン樹脂層の表面の突起の割合が0.1個/μm2〜50個/μm2であることを特徴とする酸性ガス分離用積層体の製造方法。

IPC (6件)：

B01D 69/00 ,  B01D 71/70 ,  B01D 71/38 ,  B01D 71/40 ,  B01D 69/12 ,  B01D 69/10

FI (6件)：

B01D69/00 500 ,  B01D71/70 ,  B01D71/38 ,  B01D71/40 ,  B01D69/12 ,  B01D69/10

Fターム (38件)：

4D006GA41 ,  4D006HA61 ,  4D006JA05A ,  4D006JA06A ,  4D006JA19Z ,  4D006JA27A ,  4D006MA03 ,  4D006MA09 ,  4D006MA18 ,  4D006MA31 ,  4D006MB09 ,  4D006MB15 ,  4D006MB20 ,  4D006MC11 ,  4D006MC23 ,  4D006MC29 ,  4D006MC30 ,  4D006MC33X ,  4D006MC36X ,  4D006MC38 ,  4D006MC40 ,  4D006MC45 ,  4D006MC54 ,  4D006MC58 ,  4D006MC60 ,  4D006MC62 ,  4D006MC63 ,  4D006MC65 ,  4D006MC83 ,  4D006MC84 ,  4D006MC85 ,  4D006MC89 ,  4D006MC90 ,  4D006NA46 ,  4D006NA64 ,  4D006NA73 ,  4D006PA01 ,  4D006PB18

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 特開昭61-082806