特許
J-GLOBAL ID:201503009824535214

コアシェル触媒粒子の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件): 岸本 達人 ,  山下 昭彦 ,  山本 典輝
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2014-026748
公開番号(公開出願番号):特開2015-150504
出願日: 2014年02月14日
公開日(公表日): 2015年08月24日
要約:
【課題】白金の単位質量当たりの触媒活性が高いコアシェル触媒粒子の製造方法を提供する。【解決手段】パラジウムを含むコアと、白金を含み且つ前記コアを被覆するシェルと、を備えるコアシェル触媒粒子の製造方法であって、銅イオン含有電解液中において、パラジウム含有粒子に銅の酸化還元電位よりも貴な電位を印加することによって、前記パラジウム含有粒子の表面に銅を析出させる工程と、前記銅析出工程後、-3°C以上10°C以下に維持された反応系内において、前記パラジウム含有粒子の表面に析出した前記銅に、白金イオン及び前記銅と白金との置換反応を抑制する反応抑制剤を含有する白金イオン含有溶液を接触させることによって、前記パラジウム含有粒子の表面に析出した前記銅を白金に置換することによって前記シェルを形成する工程と、を有することを特徴とするコアシェル触媒粒子の製造方法。【選択図】図3
請求項(抜粋):
パラジウムを含むコアと、白金を含み且つ前記コアを被覆するシェルと、を備えるコアシェル触媒粒子の製造方法であって、 銅イオン含有電解液中において、パラジウム含有粒子に銅の酸化還元電位よりも貴な電位を印加することによって、前記パラジウム含有粒子の表面に銅を析出させる工程と、 前記銅析出工程後、-3°C以上10°C以下に維持された反応系内において、前記パラジウム含有粒子の表面に析出した前記銅に、白金イオン及び前記銅と白金との置換反応を抑制する反応抑制剤を含有する白金イオン含有溶液を接触させることによって、前記パラジウム含有粒子の表面に析出した前記銅を白金に置換することによって前記シェルを形成する工程と、を有することを特徴とするコアシェル触媒粒子の製造方法。
IPC (5件):
B01J 37/34 ,  B01J 35/08 ,  B01J 23/44 ,  H01M 4/88 ,  H01M 4/92
FI (5件):
B01J37/34 ,  B01J35/08 B ,  B01J23/44 M ,  H01M4/88 K ,  H01M4/92
Fターム (23件):
4G169AA03 ,  4G169AA08 ,  4G169BA08A ,  4G169BA08B ,  4G169BC72A ,  4G169BC72B ,  4G169BC75A ,  4G169BC75B ,  4G169CC32 ,  4G169EA04X ,  4G169EC28 ,  4G169FA02 ,  4G169FB14 ,  4G169FB23 ,  4G169FB58 ,  5H018AS01 ,  5H018BB06 ,  5H018BB13 ,  5H018BB17 ,  5H018EE02 ,  5H018EE03 ,  5H018EE16 ,  5H018HH08
引用特許:
審査官引用 (1件)

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