イオン注入装置

発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-052605
公開番号（公開出願番号）：特開2013-187102
特許番号：特許第5800286号
出願日： 2012年03月09日
公開日（公表日）： 2013年09月19日
請求項（抜粋）：

【請求項1】イオンビームの進行方向をZ方向とし、Z方向と実質的に直交する2方向をX方向およびY方向とすると、Y方向の寸法よりもX方向の寸法が大きいリボン状のイオンビームを生成するイオン源と、内部に少なくとも1つのソレノイドコイルを備え、前記ソレノイドコイルによって発生される磁場によって前記イオンビームを偏向させる質量分析マグネットと、前記質量分析マグネットを通過した前記イオンビームのうち所望するイオンを含むイオンビームのみを通過させる分析スリットとを有するイオン注入装置であって、 XZ平面において、前記ソレノイドコイルで発生される磁場の方向と前記質量分析マグネットに入射する前記イオンビームの進行方向とが斜めに交差することを特徴とするイオン注入装置。

IPC (3件)：