特許
J-GLOBAL ID：201503010498606163

リソグラフィ装置およびデバイス製造方法

発明者：
バセルマンズ,ヨハネス

バセルマンズ,ヨハネス について

, 
ループストラ,エリック

ループストラ,エリック について


出願人/特許権者：
エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.

エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. について


代理人 (2件)： 稲葉 良幸 ,  大貫 敏史
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2015-513080
公開番号（公開出願番号）：特表2015-522838
出願日： 2013年05月07日
公開日（公表日）： 2015年08月06日
要約：
【課題】 XY位置制御および焦点制御の両方を提供することができるリソグラフィ装置を提供する。【解決手段】 XY平面における位置の高分解能制御および/または焦点制御を提供するフィールドマニピュレータ。このフィールドマニピュレータは、パターニングデバイスと基板との間に配置されたプレートを含む。焦点位置の制御がプレートの局所的変形によって提供することができる一方、XY位置の制御はプレートの傾きによって提供される。両方の調整は、プレートの1つ以上の縁部に作用する1つ以上のアクチュエータによって行うことできる。一実施形態では、2つの実質的に平行なプレートが提供され、そのプレート間の間隔を変化させることによって焦点制御を提供することができる。【選択図】図6
請求項（抜粋）：
基板を保持する基板テーブルと、 パターン付き放射ビームを前記基板のターゲット部分上に投影する投影システムであって、光軸を有する投影システムと、 一対の実質的に平行なプレートと前記プレートに作用して前記光軸に直交する平面における前記放射ビームの位置を調整し、および/または前記放射ビームの焦点を調整するアクチュエータとを備えるフィールドマニピュレータと を備える、リソグラフィ装置。
IPC (3件)：
G03F 7/207 ,  G03F 9/02 ,  G03F 7/20
FI (3件)：
G03F7/207 H ,  G03F9/02 H ,  G03F7/20 503
Fターム (13件)：
2H197AA11 ,  2H197BA15 ,  2H197CA10 ,  2H197CC16 ,  2H197DB05 ,  2H197DB10 ,  2H197DB11 ,  2H197DB19 ,  2H197DB23 ,  2H197GA01 ,  2H197GA08 ,  2H197GA23 ,  2H197HA03
引用特許：
審査官引用 (3件)
  • 特開昭58-072127
  • 特開昭61-278141
  • 投影露光装置及び方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-291807   出願人：株式会社ニコン

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