特許
J-GLOBAL ID：201503010612934656
液体処理装置及び液体処理方法、ならびにプラズマ処理液
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
田中 光雄
, 鮫島 睦
, 岡部 博史
, 稲葉 和久
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-008773
公開番号（公開出願番号）：特開2015-136644
出願日： 2014年01月21日
公開日（公表日）： 2015年07月30日
要約：
【課題】プラズマによって発生する反応種を効率よく利用することができる液体処理装置及び液体処理方法、ならびに当該装置または方法に基づくプラズマ処理液を提供する。【解決手段】本開示のプラズマ処理液は、第1の電極を囲む絶縁体との間で形成される空間に窒素を含む気体を供給することによって、前記絶縁体に設けられた開口部から途切れることのない気泡を、液体中に発生させ、前記第1の電極と、前記液体中に配置される第2の電極との間に、電圧を印加して前記気泡内で放電させる、液体処理方法によって処理された液体であって、NOラジカル生成速度が3×10-9mol/(min・W)以上で処理された液体である。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
第1の電極を囲む絶縁体との間で形成される空間に窒素を含む気体を供給することによって、前記絶縁体に設けられた開口部から途切れることのない気泡を、液体中に発生させ、前記第1の電極と、前記液体中に配置される第2の電極との間に、電圧を印加して前記気泡内で放電させる、液体処理方法によって処理された液体であって、NOラジカル生成速度が3×10-9mol/(min・W)以上で処理された、プラズマ処理液。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (15件)：
4D061DA01
, 4D061DA08
, 4D061DB09
, 4D061EA15
, 4D061EB01
, 4D061EB07
, 4D061EB14
, 4D061EB19
, 4D061EB27
, 4D061EB28
, 4D061EB31
, 4D061EB33
, 4D061EB40
, 4D061ED06
, 4D061ED20
