特許
J-GLOBAL ID：201503010763986470

ガス溶解水供給装置及びガス溶解水の製造方法

発明者：
床嶋 裕人

床嶋 裕人 について

, 
瀬尾 啓太

瀬尾 啓太 について


出願人/特許権者：
栗田工業株式会社

栗田工業株式会社 について


代理人 (2件)： 重野 剛 ,  重野 隆之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2015-109867
公開番号（公開出願番号）：特開2015-180500
出願日： 2015年05月29日
公開日（公表日）： 2015年10月15日
要約：
【課題】溶存ガス濃度が低濃度(低飽和度)であるガス溶解水を安定して供給することが可能なガス溶解水供給装置及びガス溶解水の製造方法を提供する。【解決手段】ガス供給配管31から気相室13内に酸素ガスを供給すると共に、真空ポンプ35を作動し、気相室13内を真空排気する。また、原水配管21から液相室12内に原水を供給する。気相室13内の酸素の一部は、気体透過膜11を透過して液相室12内の原水に溶存し、ガス溶解水が製造される。気相室13内の酸素の残部は、凝縮水と共に真空ポンプ35で吸引されて排気配管33から排出される。ガス溶解水の溶存酸素濃度が溶存ガス濃度計23で測定され、この測定濃度が目標値となるように、ガス流量制御弁32の開度が調節される。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
気体透過膜によって気相室と液相室に区画された気体透過膜モジュールを有し、通水手段によって該液相室に被処理水を通水すると共に、ガス供給手段によって該気相室にガスを供給し、該ガスを該気相室から該気体透過膜を介して該液相室内の該被処理水に溶解させることにより、該被処理水をガス溶解水とするガス溶解水供給装置において、 真空排気手段によって該気相室内を真空排気しながら、前記ガス供給手段によって該気相室内に該ガスを供給するように該真空排気手段を設けたことを特徴とするガス溶解水供給装置。
IPC (4件)：
B01F 1/00 ,  B01F 5/06 ,  B01F 15/04 ,  H01L 21/304
FI (6件)：
B01F1/00 A ,  B01F1/00 B ,  B01F5/06 ,  B01F15/04 D ,  H01L21/304 647Z ,  H01L21/304 648G
Fターム (26件)：
4G035AA01 ,  4G035AA04 ,  4G035AB28 ,  4G035AC26 ,  4G035AE02 ,  4G035AE13 ,  4G037BC03 ,  4G037BD06 ,  4G037EA01 ,  5F157BC13 ,  5F157BC41 ,  5F157BD22 ,  5F157BD25 ,  5F157BD26 ,  5F157BD28 ,  5F157BD33 ,  5F157BD35 ,  5F157BD36 ,  5F157BD54 ,  5F157BE12 ,  5F157CD34 ,  5F157CE37 ,  5F157CF04 ,  5F157CF42 ,  5F157CF74 ,  5F157DB03
引用特許：
審査官引用 (15件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM