特許
J-GLOBAL ID:201503010822026965
MOCVD反応炉の面状ヒータ用加熱エレメント
発明者:
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出願人/特許権者:
,
代理人 (2件):
山口 巖
, 山本 浩
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2015-525776
公開番号(公開出願番号):特表2015-527742
出願日: 2013年08月05日
公開日(公表日): 2015年09月17日
要約:
本発明は、多孔焼結被膜(30)で少なくとも部分的に直接覆われた加熱体(20)を有する加熱エレメント(10)に関する。加熱体(20)及び多孔焼結被膜(30)はそれぞれ、少なくとも90重量%のタングステンを含む。【選択図】図5b
請求項(抜粋):
多孔焼結被膜(30)で少なくとも部分的に直接覆われた加熱体(20)を有し、前記加熱体(20)及び前記多孔焼結被膜(30)がそれぞれ少なくとも90重量%のタングステンを含んでいる、加熱エレメント。
IPC (3件):
H01L 21/205
, H05B 3/12
, H05B 3/10
FI (3件):
H01L21/205
, H05B3/12 A
, H05B3/10 C
Fターム (19件):
3K092PP20
, 3K092QA03
, 3K092QA05
, 3K092QB02
, 3K092QB43
, 3K092QB44
, 3K092QB45
, 3K092RE03
, 3K092VV34
, 3K092VV40
, 5F045AA04
, 5F045AB09
, 5F045CA10
, 5F045DP02
, 5F045DP15
, 5F045DP27
, 5F045EK07
, 5F045EK08
, 5F045EM10
引用特許: