特許
J-GLOBAL ID:201503011224442527
フルオロシリル基を有する化合物及びその製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (6件):
岩瀬 吉和
, 小野 誠
, 金山 賢教
, 坪倉 道明
, 重森 一輝
, 城山 康文
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2014-008359
公開番号(公開出願番号):特開2015-137239
出願日: 2014年01月21日
公開日(公表日): 2015年07月30日
要約:
【課題】高い発光効率を有し、かつ低分子量で容易に製造可能な新規フルオロシリル化化合物を提供。【解決手段】式(1)で表される化合物。(R1、R2は、水素原子、ハロゲン原子、アルキル、アリール、アルコキシ、パーフルオロアルキル、シアノ、ニトロ、及びエステルから選択される置換基に代表され;又は、隣接する2つのR1又はR2が存在する場合、それらが結合している炭素原子と一緒になって、環構造を形成し、又は、1つのR1と1つのR2が、それらが結合している炭素原子と一緒になって、環構造を形成してもよい。)【選択図】なし
請求項(抜粋):
以下の式(1)で表される化合物。
IPC (1件):
FI (3件):
C07F7/12 D
, C07F7/12 W
, C07F7/12 G
Fターム (16件):
4H039CA92
, 4H039CD10
, 4H039CD90
, 4H049VN01
, 4H049VP01
, 4H049VP02
, 4H049VQ59
, 4H049VR23
, 4H049VR31
, 4H049VS39
, 4H049VS97
, 4H049VT17
, 4H049VT30
, 4H049VU24
, 4H049VU29
, 4H049VW02
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