特許
J-GLOBAL ID:201503011285594206
陽イオン交換膜及びこれを用いた電解槽
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (3件):
稲葉 良幸
, 大貫 敏史
, 内藤 和彦
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2012-028822
公開番号(公開出願番号):特開2013-163860
特許番号:特許第5773906号
出願日: 2012年02月13日
公開日(公表日): 2013年08月22日
請求項(抜粋):
【請求項1】 カルボン酸基を有する含フッ素系重合体からなる第一層と、
含フッ素系重合体からなり、カルボン酸基とスルホン酸基とを有する第二層と、
スルホン酸基を有する含フッ素系重合体からなる第三層と、
を有し、
前記第一層、前記第二層、前記第三層の順に形成されており、
前記第一層の含水率をWIとし、
前記第二層の含水率をWIIとし、
前記第三層の含水率をWIIIとしたとき、
WIEII
EII>EIII
であり、
EI-EII≦30Mpa
EII-EIII≦40Mpa
である陽イオン交換膜。
IPC (2件):
C25B 13/08 ( 200 6.01)
, C25B 9/00 ( 200 6.01)
FI (2件):
C25B 13/08 302
, C25B 9/00 E
引用特許:
出願人引用 (4件)
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フツ素系イオン交換膜
公報種別:公開公報
出願番号:特願平3-255195
出願人:旭化成工業株式会社
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特開昭57-143332
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特開平4-308096
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特開昭63-113029
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審査官引用 (4件)