特許
J-GLOBAL ID:201503011287451640
溶銑の脱珪脱りん処理方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件):
市原 政喜
, 剱物 英貴
, 広瀬 章一
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2012-169717
公開番号(公開出願番号):特開2014-028992
特許番号:特許第5803837号
出願日: 2012年07月31日
公開日(公表日): 2014年02月13日
請求項(抜粋):
【請求項1】 上吹きランスと底吹きノズルを備えた上底吹き型の転炉に、質量濃度で、C:4.3〜4.6%、Si:0.30〜0.50%およびP:0.090〜0.120%を有する溶銑を装入して、前記上吹ランスから酸素とともに粉状生石灰を吹付けて脱硅脱りん処理する方法であって、
固体酸素源を溶銑上に、前記上吹きランスから酸素供給を開始する直前または直後30秒間以内に、酸素流量に換算して2.0〜4.0Nm3/t添加し、
前記上吹きランスからの上吹き酸素供給速度を2.0〜3.0Nm3/min/tとし、
前記底吹きノズルからの底吹きガス供給速度を、脱硅処理期間中には0.2〜0.3Nm3/min/tとするとともに、脱硅処理後脱りん処理終了までは0.4〜0.5Nm3/min/tとし、
装入塩基度を質量比率でCaO/SiO2:2.5〜3.0として、
該装入塩基度の計算に含まれる全CaO質量の80%以上を、最大粒径が0.5mm以下とした粉状生石灰により6kg/min/t以下の吹込み速度で調整して前記上吹きランスから酸素とともに溶銑に吹付け、
該上吹酸素の供給時間が6分間以下であり、
処理終了後の溶銑中C濃度を質量濃度で3.4〜3.7%とすること
を特徴とする溶銑の脱硅脱りん処理方法。
但し、脱硅処理期間とは、前記上吹酸素の供給開始から溶銑中のSiが除去されるまでの期間であって、(1)式により計算される時間(min)である。
([Si]0×8-Qo’)/Qo・・・・・(1)
[Si]0:転炉へ装入する溶銑のSi濃度(質量%)
Qo’:上吹きランスから酸素供給を開始する直前または直後30秒間以内に溶銑上に添加する固体酸素量(Nm3/t)
Qo:上吹きランスから供給する酸素流量(Nm3/min/t)
IPC (3件):
C21C 1/02 ( 200 6.01)
, C21C 5/35 ( 200 6.01)
, C21C 1/04 ( 200 6.01)
FI (3件):
C21C 1/02 110
, C21C 5/35
, C21C 1/04 101
引用特許:
出願人引用 (7件)
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溶銑の脱燐方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2010-121934
出願人:住友金属工業株式会社
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溶銑の脱燐方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2008-102523
出願人:住友金属工業株式会社
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溶銑の脱りん方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2009-281797
出願人:住友金属工業株式会社
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特開昭58-147506
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溶銑の脱燐方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2010-046319
出願人:住友金属工業株式会社
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溶銑の脱燐処理方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2010-118640
出願人:住友金属工業株式会社
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特開昭57-013110
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