特許

J-GLOBAL ID：201503012037266533

パターン位相差フィルタの検査装置及び検査方法

発明者： 高橋 一平 ,  大西 一夫
出願人/特許権者： 富士フイルム株式会社
代理人 (1件)： 小林 和憲
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-521456
特許番号：特許第5828040号
出願日： 2013年06月17日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 透明な支持体に互いに異なる位相差特性を有するライン状の第1領域と第2領域とが交互にストライプ状に配列されたパターン位相差フィルタを保持する保持部と、 前記パターン位相差フィルタの一方の面に向けて光を照射する光源部と、 前記光源部から照射された光の一部をパターン位相差フィルタの一方の面に通過させる第1偏光板と、 前記第1偏光板を通過して前記パターン位相差フィルタの一方の面に入射し、前記パターン位相差フィルタの他方の面から出射した光のうち、前記第1領域及び第2領域との少なくともいずれかを通過した光を遮断して残りの光を通過させる第2偏光板と、 前記第2偏光板を通過した光で形成される検査画像を撮像するエリアセンサカメラと、 前記検査画像の明暗分布を評価して明暗の境界位置を算出し、前記第1領域又は第2領域のライン幅又はラインピッチ、もしくは第1領域と第2領域との境界部分に生じる境界線幅の少なくともいずれかを計測する情報処理部と、 を有することを特徴とするパターン位相差フィルタの検査装置。

IPC (8件)：

G01B 11/02 ( 200 6.01) ,  G01N 21/892 ( 200 6.01) ,  G01N 21/21 ( 200 6.01) ,  G01N 21/88 ( 200 6.01) ,  G01M 11/00 ( 200 6.01) ,  G02B 5/30 ( 200 6.01) ,  G02B 27/22 ( 200 6.01) ,  G02F 1/13 ( 200 6.01)

FI (8件)：

G01B 11/02 H ,  G01N 21/892 A ,  G01N 21/21 Z ,  G01N 21/88 H ,  G01M 11/00 T ,  G02B 5/30 ,  G02B 27/22 ,  G02F 1/13 505