基板洗浄装置

発明者： , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：板谷康夫 , 田口勝美 , 水田愼一 , 板谷真之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-212119
公開番号（公開出願番号）：特開2015-213847
出願日： 2012年09月26日
公開日（公表日）： 2015年12月03日
要約：

【課題】基板表面を洗浄する基板洗浄装置において、基板上に形成された樹脂パターンには影響を与えることなく、基板に付着した異物を効率良く除去する。【解決手段】基板洗浄装置1は、テープ状のクロス3と、クロス3を基板2に押し当てながら移動するローラ4と、基板2上の領域Uに対して局所的に紫外線を照射する紫外線光源7と、を備える。紫外線光源7は、ローラ4と共に基板2に対して移動し、ローラ4は、領域Uにクロス3を接触させる。紫外線光源7からの紫外線が領域Uに照射されることで領域U内の異物25の基板2への付着性が弱められた後、領域Uにクロス3が接触して異物25を拭き取る。紫外線光源7からの紫外線が、基板2上に形成された樹脂パターン23には照射されないようにすることで、樹脂パターン23には影響を与えることなく、基板2に付着した異物25を効率良く除去することができる。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

基板上にテープ状のクロスを接触させて前記基板の表面を拭き取る基板洗浄装置であって、前記クロスを前記基板に押し当てながら移動するローラと、前記クロスを前記ローラに供給するリールと、前記基板に対して局所的に紫外線を照射する紫外線光源と、を備え、前記紫外線光源は、前記ローラと共に前記基板に対して移動し、前記ローラは、前記基板上において前記紫外線光源からの紫外線が照射された領域に前記クロスを接触させることを特徴とする基板洗浄装置。

IPC (4件)：

B08B 1/02 , B08B 7/04 , H05B 33/10 , H01L 51/50

FI (4件)：

B08B1/02 , B08B7/04 Z , H05B33/10 , H05B33/14 A

Fターム (14件)：

3B116AA02 , 3B116AB01 , 3B116BA08 , 3B116BA23 , 3B116BA34 , 3B116BB22 , 3B116BC01 , 3B116CD43 , 3K107AA01 , 3K107BB02 , 3K107CC45 , 3K107FF13 , 3K107GG22 , 3K107GG28

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