基板処理装置、基板処理方法及び記憶媒体

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：井上俊夫 , 三井田友昭
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-195204
公開番号（公開出願番号）：特開2014-053370
特許番号：特許第5803855号
出願日： 2012年09月05日
公開日（公表日）： 2014年03月20日
請求項（抜粋）：

【請求項1】基板に形成され、溶剤に対して可溶なパターンマスクの荒れを改善する処理を行うための基板処理装置において、処理容器と、前記処理容器内に設けられ、前記パターンマスクが下面側になるように前記基板を保持するための基板保持部と、前記基板保持部に保持された基板の下面と対向するように設けられ、その上面が開口すると共に溶剤を収容する溶剤収容部と、前記溶剤収容部の上面を塞ぐための蓋体と、前記蓋体を溶剤収容部の上面を塞ぐ位置と、前記基板の下方領域から退避する位置との間で移動させる移動機構と、を備えたことを特徴とする基板処理装置。

IPC (2件)：