特許
J-GLOBAL ID：201503012775559260
検査装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
大野 聖二
, 森田 耕司
, 加藤 真司
, 津田 理
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-077591
公開番号（公開出願番号）：特開2015-201257
出願日： 2014年04月04日
公開日（公表日）： 2015年11月12日
要約：
【課題】 検査対象の表面の凹凸の状態を高コントラストで検査することのできる検査装置を提供する。 【解決手段】 検査装置は、荷電粒子又は電磁波をビームとして発生させるビーム発生手段と、検査対象にビームを照射する1次光学系と、検査対象から発生した二次荷電粒子を検出する2次光学系と、検出された二次荷電粒子に基づいて画像を形成する画像処理系を備える。ビームの照射エネルギーは、ビームの照射により検査対象から二次荷電粒子としてミラー電子が放出されるエネルギー領域に設定される。2次光学系は、二次荷電粒子を検出するためのカメラと、光軸方向に沿って位置を調整可能なニューメリカルアパーチャと、ニューメリカルアパーチャを通過した二次荷電粒子をカメラの像面に結像させるレンズとを備える。画像処理系では、ニューメリカルアパーチャの位置を物面にして撮像を行うアパーチャ結像条件で画像が形成される。【選択図】 図15
請求項（抜粋）：
荷電粒子又は電磁波の何れかをビームとして発生させるビーム発生手段と、
ワーキングチャンバ内に保持された検査対象に、前記ビームを照射する1次光学系と、
前記検査対象から発生した二次荷電粒子を検出する2次光学系と、
検出された前記二次荷電粒子に基づいて画像を形成する画像処理系と、
を備え、
前記ビームの照射エネルギーは、前記ビームの照射により前記検査対象から前記二次荷電粒子としてミラー電子が放出されるエネルギー領域に設定され、
前記2次光学系は、前記二次荷電粒子を検出するためのカメラと、光軸方向に沿って位置を調整可能なニューメリカルアパーチャと、前記ニューメリカルアパーチャを通過した前記二次荷電粒子を前記カメラの像面に結像させるレンズとを備え、
前記画像処理系では、前記ニューメリカルアパーチャの位置を物面にして撮像を行うアパーチャ結像条件で前記画像が形成されることを特徴とする検査装置。
IPC (4件)：
H01J 37/29
, H01J 37/21
, H01J 37/09
, H01L 21/66
H01J37/29
, H01J37/21 Z
, H01J37/09 A
, H01L21/66 J
4M106AA01
, 4M106AA09
, 4M106BA02
, 4M106CA38
, 4M106DB05
, 4M106DB12
, 5C033BB01
, 5C033MM01
