特許
J-GLOBAL ID：201503013162352537
熱処理システム、熱処理方法、及び、プログラム
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
木村 満
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-075056
公開番号（公開出願番号）：特開2013-207109
特許番号：特許第5766647号
出願日： 2012年03月28日
公開日（公表日）： 2013年10月07日
請求項（抜粋）：
【請求項1】被処理体に不純物ドープポリシリコン膜を形成する熱処理システムであって、
複数枚の前記被処理体を収容する処理室内を加熱する加熱手段と、
前記処理室内にポリシリコン膜の成膜用ガスとドープ用ガスとを供給する複数のガス供給手段と、
前記加熱手段により加熱される処理室内の温度、前記ガス供給手段により供給させる成膜用ガスおよびドープ用ガスの流量を含む熱処理条件を記憶する熱処理条件記憶手段と、
前記処理室内の温度および前記ドープ用ガスの流量の変化と、前記不純物ドープポリシリコン膜の膜厚および膜中に含まれる不純物濃度の変化との関係を示すモデルを記憶するモデル記憶手段と、
前記熱処理条件記憶手段により記憶された熱処理条件で前記被処理体に不純物ドープポリシリコン膜を形成する熱処理手段と、
前記熱処理手段により形成された不純物ドープポリシリコン膜の膜厚および膜中に含まれる不純物濃度が所望の範囲に含まれるか否かを判別し、前記所望の範囲に含まれないと判別すると、当該不純物ドープポリシリコン膜の膜厚および膜中に含まれる不純物濃度と前記モデル記憶手段により記憶されたモデルとに基づいて、前記所望の範囲に含まれるような処理室内の温度およびドープ用ガスの流量を算出する算出手段と、
前記熱処理条件記憶手段により記憶された処理室内の温度およびドープ用ガスの流量を前記算出手段により算出された処理室内の温度およびドープ用ガスの流量にそれぞれ変更し、変更した熱処理条件で前記被処理体を熱処理して、前記所望の範囲に含まれる不純物ドープポリシリコン膜の膜厚および膜中に含まれる不純物濃度に調整する調整手段と、
を、備えることを特徴とする熱処理システム。
IPC (3件)：
H01L 21/205 ( 200 6.01)
, C23C 16/24 ( 200 6.01)
, C23C 16/52 ( 200 6.01)
H01L 21/205
, C23C 16/24
, C23C 16/52
