液処理装置及び液処理方法並びに液処理用記憶媒体

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：中本菊彦
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-165319
公開番号（公開出願番号）：特開2014-027068
特許番号：特許第5721145号
出願日： 2012年07月26日
公開日（公表日）： 2014年02月06日
請求項（抜粋）：

【請求項1】上端が開放する処理カップ内に配設され、基板を水平に保持する基板保持部と、上記基板保持部を鉛直軸回りに回転させる回転機構と、上記基板の表面に処理液を供給する処理液供給部と、上記基板保持部に保持された基板の周囲雰囲気を排気する排気機構と、を具備する液処理装置において、上記排気機構は、上記処理カップの底部に設けられた排気口に接続され、排気装置を介設する排気流路と、上記排気流路から分岐して上記処理カップに連通する循環流路と、上記排気流路における上記分岐部を含む該分岐部の一次側又は上記循環流路に介設される気液分離器と、上記排気流路に介設される開閉及び開度調整可能な第1の調整弁と、上記気液分離器の二次側の排気流路に介設される開閉可能な第2の調整弁と、上記回転機構、排気装置、第1及び第2の調整弁の駆動を制御する制御部と、を具備し、上記制御部からの制御信号に基づいて、回転する基板表面に上記処理液供給部から処理液を供給して基板表面に処理液の液膜を形成する処理工程中は、上記第1の調整弁を開き、上記第2の調整弁を閉じて、上記気液分離器で分離された気体を上記循環流路から上記処理カップ内に流入して、処理カップ内に流入される気体によって処理カップ内における基板の周囲雰囲気を上記排気口側へ誘導し、上記処理工程の停止後、上記第1の調整弁を閉じ、上記第2の調整弁を開いて排気する、ことを特徴とする液処理装置。

IPC (4件)：

H01L 21/027 ( 200 6.01) , G03F 7/16 ( 200 6.01) , B05C 11/08 ( 200 6.01) , B05D 1/40 ( 200 6.01)

FI (4件)：

H01L 21/30 564 C , G03F 7/16 502 , B05C 11/08 , B05D 1/40 A

引用特許：

出願人引用 (4件)

液処理装置及び液処理方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-169552 出願人：東京エレクトロン株式会社
特開平3-288569
塗布膜形成装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2005-249299 出願人：東京エレクトロン株式会社

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審査官引用 (4件)

液処理装置及び液処理方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-169552 出願人：東京エレクトロン株式会社
特開平3-288569
塗布膜形成装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2005-249299 出願人：東京エレクトロン株式会社

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