偏光素子の製造方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：志賀正武 , 大浪一徳
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-048257
公開番号（公開出願番号）：特開2013-182263
特許番号：特許第5821707号
出願日： 2012年03月05日
公開日（公表日）： 2013年09月12日
請求項（抜粋）：

【請求項1】ガラス基板上に、金属ハロゲン化物を含む粒状物を形成する工程と、前記粒状物を構成する前記金属ハロゲン化物を還元しつつ、前記粒状物を覆う保護膜をプラズマ環境下で形成する工程と、前記ガラス基板が軟化する温度において、前記ガラス基板及び前記保護膜を延伸することで前記粒状物を延伸させる工程と、を有し、前記粒状物の形成工程では、前記ガラス基板上に形成した金属の被膜をハロゲン又はハロゲン化合物を含むガスのプラズマに曝すことでエッチングして前記粒状物を形成する、偏光素子の製造方法。

IPC (2件)：