特許

J-GLOBAL ID：201503013998263007

スパッタリング装置

発明者： 石村 徹 ,  安松 保志 ,  岡本 直之
出願人/特許権者： キヤノンアネルバ株式会社
代理人 (6件)： 大塚 康徳 ,  高柳 司郎 ,  大塚 康弘 ,  木村 秀二 ,  下山 治 ,  永川 行光
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP2012006144
公開番号（公開出願番号）：WO2013-088615
出願日： 2012年09月26日
公開日（公表日）： 2013年06月20日
要約：

スパッタリング装置は、カソードボディとカソードマグネットが同電位になるように電力を印加する電力印加装置を備えており、カソードマグネットに印加する電力は、カソードマグネットに取り付けられたマグネット回転軸とカソードボディとの間に配置されたスプラインを介して供給する。

請求項（抜粋）：

ターゲットを配置できるカソードボディと、 前記カソードボディに配置された前記ターゲットの表面に磁場を生じさせるカソードマグネットと、 前記カソードマグネットを回転させるとともに、前記カソードボディに対して接近又は離間させるマグネット駆動装置と、 前記カソードボディと前記カソードマグネットが同電位になるように電力を印加する電力印加装置と、を備え、 前記マグネット駆動装置は、前記カソードマグネットに連結されるマグネット支持部と、前記マグネット支持部を前記カソードボディに対して接近又は離間する方向に移動できるように支持するスライド支持手段とを有し、 前記電力印加装置は、前記スライド支持手段を介して前記カソードマグネットに電力を供給することを特徴とするスパッタリング装置。

IPC (1件)：

C23C 14/35

FI (1件)：

C23C14/35 B

Fターム (3件)：

4K029DC33 ,  4K029DC45 ,  4K029DC46