特許
J-GLOBAL ID：201503014382678383

低塩素硫酸ニッケル/コバルト溶液の製造方法

発明者：
米山 智暁

米山 智暁 について

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柴山 敬介

柴山 敬介 について

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服部 靖匡

服部 靖匡 について


出願人/特許権者：
住友金属鉱山株式会社

住友金属鉱山株式会社 について


代理人 (1件)： 特許業務法人山内特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-009340
公開番号（公開出願番号）：特開2015-137200
出願日： 2014年01月22日
公開日（公表日）： 2015年07月30日
要約：
【課題】コバルト水溶液の添加量を少なくでき、かつ、硫酸ニッケル/コバルト溶液の塩素濃度を低減できる低塩素硫酸ニッケル/コバルト溶液の製造方法を提供する。【解決手段】塩素および水酸化第二ニッケルを含有するスラリーにコバルト水溶液を添加するコバルト添加工程と、スラリーに硫酸を添加する硫酸溶解工程とを備え、硫酸溶解工程において硫酸の添加流量を25L/分以下とする。添加された硫酸がスラリーの液面近傍に留まるので、発生した塩素ガスがスラリーに再溶解することなく放出され、塩素の除去効率がよくなる。その結果、コバルト水溶液の添加量を少なくでき、かつ、硫酸ニッケル/コバルト溶液の塩素濃度を低減できる。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
塩素および水酸化第二ニッケルを含有するスラリーにコバルト水溶液を添加することで、水酸化第二コバルトを生成するコバルト添加工程と、 前記コバルト添加工程の後、前記スラリーに硫酸を添加することで、該スラリー中の水酸化第二ニッケルおよび水酸化第二コバルトを溶解して硫酸ニッケル/コバルト溶液を得るとともに、該スラリー中の塩素を塩素ガスとして放出して除去する硫酸溶解工程と、を備え、 前記硫酸溶解工程において、前記硫酸の添加流量を25L/分以下とする ことを特徴とする低塩素硫酸ニッケル/コバルト溶液の製造方法。
IPC (1件)：
C01G 53/00
FI (1件)：
C01G53/00 A
Fターム (7件)：
4G048AA01 ,  4G048AA07 ,  4G048AB02 ,  4G048AC06 ,  4G048AC08 ,  4G048AE05 ,  4G048AE06
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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