特許
J-GLOBAL ID：201503014761308267
露光描画装置、プログラム及び露光描画方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
中島 淳
, 加藤 和詳
, 福田 浩志
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-082562
公開番号（公開出願番号）：特開2013-213853
特許番号：特許第5813556号
出願日： 2012年03月30日
公開日（公表日）： 2013年10月17日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 第1面及び該第1面に対向する第2面を有する被露光基板を露光することにより回路パターンを描画する露光手段と、
前記被露光基板の前記第2面の予め定められた位置に露光位置の基準とする第1マークを形成すると共に、前記第1マークに対する相対位置を前記被露光基板毎に異ならせることにより該相対位置によって前記被露光基板を識別する識別情報を表す第2マークを形成するマーク形成手段と、
前記被露光基板に回路パターンが描画されるように前記露光手段を制御する制御手段と、
前記相対位置によって表される識別情報に対応させて前記露光に関する情報を記憶する記憶手段と、
を備えた露光描画装置。
IPC (1件)：
FI (1件)：
引用特許：
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