特許
J-GLOBAL ID:201503015370560250
Fmoc基の除去方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (8件):
高島 一
, 土井 京子
, 鎌田 光宜
, 田村 弥栄子
, 山本 健二
, 村田 美由紀
, 小池 順造
, 當麻 博文
公報種別:再公表公報
出願番号(国際出願番号):JP2012082554
公開番号(公開出願番号):WO2013-089241
出願日: 2012年12月14日
公開日(公表日): 2013年06月20日
要約:
本発明は、式(I):HS-L-COOH(式中、Lは、置換基を有していてもよいC1-8アルキレン基を示す。)で表される化合物、Fmoc基で保護されたアミノ基含有化合物および塩基を混合して、式(II):Fm-S-L-COOH(式中、Fmは、9-フルオレニルメチル基を示し、Lは、前記の通りである。)で表される化合物およびアミノ基含有化合物を含む反応混合物を得る工程、および得られた反応混合物を塩基性水溶液で洗浄することによって、式(II)で表される化合物を除去する工程を含む、Fmoc基の除去方法に関する。本発明によれば、副生成物であるジベンゾフルベン誘導体を容易に取り除くことができるFmoc基の除去方法を提供することができる。
請求項(抜粋):
式(I):
HS-L-COOH (I)
(式中、Lは、置換基を有していてもよいC1-8アルキレン基を示す。)
で表される化合物、Fmoc基で保護されたアミノ基含有化合物および塩基を混合して、式(II):
Fm-S-L-COOH (II)
(式中、Fmは、9-フルオレニルメチル基を示し、Lは、前記の通りである。)
で表される化合物およびアミノ基含有化合物を含む反応混合物を得る工程、および
得られた反応混合物を塩基性水溶液で洗浄することによって、式(II)で表される化合物を除去する工程
を含む、Fmoc基の除去方法。
IPC (4件):
C07C 227/04
, C07C 229/08
, C07C 329/06
, C07K 1/06
FI (4件):
C07C227/04
, C07C229/08
, C07C329/06
, C07K1/06
Fターム (14件):
4H006AA02
, 4H006AC52
, 4H006AC60
, 4H006AC80
, 4H006BE12
, 4H006BS10
, 4H006BU32
, 4H045AA20
, 4H045FA30
, 4H045FA41
, 4H045FA52
, 4H045FA58
, 4H045FA59
, 4H045FA61
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