特許
J-GLOBAL ID：201503015558005131
近接場光利用ヘッドの製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
久原 健太郎
, 内野 則彰
, 木村 信行
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-053549
公開番号（公開出願番号）：特開2013-186928
特許番号：特許第5823895号
出願日： 2012年03月09日
公開日（公表日）： 2013年09月19日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 先端から近接場光が発生されるコアを有し、記録媒体に前記近接場光を照射する近接場光利用ヘッドの製造方法において、
基部と、前記基部から延びる第1枝部と、前記基部を基点として前記第1枝部に対して斜め方向に延びる第2枝部とを有するクラッド母材膜を形成する第1エッチング工程と、
前記第1枝部、前記第2枝部および前記基部をエッチングすることで、前記第1枝部に第1面を形成し、前記第2枝部に前記第1面に対して傾斜する第2面を形成し、前記基部に前記第1面と前記第2面とが交わる交辺を形成する第2エッチング工程と、
前記第1面、前記第2面、および前記交辺に囲まれた空間にコア母材を成膜し、前記第1面、前記第2面、および前記交辺のそれぞれに対向する第1コア面、第2コア面、およびコア交辺と、前記先端に向かうにつれて前記コア交辺との距離が縮まるように形成されるコア底面と有する前記コアを形成するコア形成工程と、
前記コア底面に面する磁極を形成する磁極形成工程とを有する近接場光利用ヘッドの製造方法。
IPC (2件)：
G11B 5/31 ( 200 6.01)
, G11B 7/135 ( 201 2.01)
G11B 5/31 Z
, G11B 7/135 Z
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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