特許
J-GLOBAL ID：201503015957503900

レジスト材料及びこれを用いたパターン形成方法

発明者：
畠山 潤

畠山 潤 について


出願人/特許権者：
信越化学工業株式会社

信越化学工業株式会社 について


代理人 (1件)： 好宮 幹夫
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-229266
公開番号（公開出願番号）：特開2014-081496
特許番号：特許第5798100号
出願日： 2012年10月16日
公開日（公表日）： 2014年05月08日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 酸によってアルカリ溶解性が向上するベース樹脂となる高分子化合物と、高分子添加剤として1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロ-2-プロパノール基を有するインデン及び/又はアセナフチレンの繰り返し単位を含有する高分子化合物とを含むレジスト材料であり、 前記酸によってアルカリ溶解性が向上するベース樹脂となる高分子化合物が100質量部に対して、前記高分子添加剤として1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロ-2-プロパノール基を有するインデン及び/又はアセナフチレンの繰り返し単位を含有する高分子化合物を0.2〜30質量部の範囲で含むことを特徴とするレジスト材料。
IPC (3件)：
G03F 7/039 ( 200 6.01) ,  G03F 7/004 ( 200 6.01) ,  C08F 32/08 ( 200 6.01)
FI (4件)：
G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 503 A ,  G03F 7/004 501 ,  C08F 32/08
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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