特許

J-GLOBAL ID：201503016408923782

ハードマスク組成物用モノマー、前記モノマーを含むハードマスク組成物および前記ハードマスク組成物を用いたパターン形成方法

発明者： キム,ユン-ジュン ,  チョン,ファン-サン ,  チョウ,ユン-ジン ,  ユン,ヨン-ウォン ,  リー,チャン-ホン ,  クォン,ヒョ-ヨン ,  チョイ,ヨウ-ジョン
出願人/特許権者： チェイル インダストリーズ インコーポレイテッド
代理人 (1件)： 八田国際特許業務法人
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-549963
公開番号（公開出願番号）：特表2015-515112
出願日： 2012年11月29日
公開日（公表日）： 2015年05月21日
要約：

化学式1で表されるハードマスク組成物用モノマー、前記モノマーを含むハードマスク組成物およびこれを用いたパターン形成方法に関する。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

下記化学式1で表されるハードマスク組成物用モノマー。

IPC (6件)：

H01L 21/306 ,  H01L 21/312 ,  G03F 7/26 ,  H01L 21/027 ,  C08G 65/34 ,  G03F 7/11

FI (7件)：

H01L21/302 105A ,  H01L21/312 A ,  G03F7/26 511 ,  H01L21/30 573 ,  C08G65/34 ,  G03F7/11 503 ,  G03F7/11 502

Fターム (39件)：

2H125AM79N ,  2H125AN11N ,  2H125AN28N ,  2H125AN39N ,  2H125AN42N ,  2H125BA01N ,  2H125CA12 ,  2H125CB08 ,  2H125CC03 ,  2H125CC15 ,  2H125DA23 ,  2H125DA24 ,  2H196AA25 ,  2H196EA05 ,  2H196KA21 ,  4J005AA21 ,  5F004AA09 ,  5F004DA01 ,  5F004DA16 ,  5F004DA25 ,  5F004DA26 ,  5F004DB03 ,  5F004DB07 ,  5F004DB23 ,  5F004EA03 ,  5F004EA07 ,  5F004EA28 ,  5F058AA10 ,  5F058AC10 ,  5F058AD09 ,  5F058AD10 ,  5F058AD11 ,  5F058AF04 ,  5F058AG01 ,  5F058AG04 ,  5F058AH04 ,  5F146NA07 ,  5F146NA12 ,  5F146NA18