特許
J-GLOBAL ID:201503016454058795

結露を遅延させるためのナノシリカコーティング

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (6件): 青木 篤 ,  石田 敬 ,  古賀 哲次 ,  出野 知 ,  胡田 尚則 ,  齋藤 都子
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2015-517285
公開番号(公開出願番号):特表2015-525131
出願日: 2013年05月30日
公開日(公表日): 2015年09月03日
要約:
本開示は、シリカナノ粒子コーティング及び物品に関し、特にシリカナノ粒子コーティングを自身の上に担持する再帰性反射装置に関する。本開示は、物品、特に再帰性反射支持体を含む物品の表面上の結露を遅延させるための方法も目的とする。
請求項(抜粋):
再帰性反射支持体を含む物品の表面上の結露を遅延させるための方法であって、 a)基材を準備する工程、 b)前記基材の前記表面の少なくとも一部分に、次の i.40nm以下の平均粒径を有するシリカナノ粒子と、40nm超の平均粒径を有するシリカナノ粒子との混合物の水性分散体であって、5未満のpHを有する、水性分散体、及び ii.5未満のpKaを有する酸、を含むシリカナノ粒子コーティング組成物を接触させる工程、 c)前記コーティング組成物を乾燥させて、前記基材上にシリカナノ粒子コーティングをもたらすことにより、コーティング組立体を形成する工程、並びに d)前記再帰性反射体支持体の少なくとも一部分上に前記コーティング組立体を適用する工程、を含む、方法。
IPC (5件):
B05D 5/00 ,  C09D 201/00 ,  C09D 7/12 ,  B32B 9/00 ,  B05D 7/24
FI (6件):
B05D5/00 F ,  C09D201/00 ,  C09D7/12 ,  B32B9/00 A ,  B05D7/24 301H ,  B05D7/24 303B
Fターム (60件):
4D075AE07 ,  4D075CA39 ,  4D075CB05 ,  4D075DA23 ,  4D075DB01 ,  4D075DB11 ,  4D075DB13 ,  4D075DB14 ,  4D075DB31 ,  4D075DB36 ,  4D075DB43 ,  4D075DB48 ,  4D075DB50 ,  4D075DC05 ,  4D075EA06 ,  4D075EB43 ,  4D075EB55 ,  4D075EB57 ,  4D075EC03 ,  4D075EC45 ,  4D075EC53 ,  4F100AA01A ,  4F100AA20B ,  4F100AB01A ,  4F100AD00A ,  4F100AG00A ,  4F100AH06C ,  4F100AK01A ,  4F100AK03A ,  4F100AK25A ,  4F100AK41A ,  4F100AK45A ,  4F100AK51A ,  4F100AT00A ,  4F100BA02 ,  4F100BA03 ,  4F100BA07 ,  4F100BA10A ,  4F100BA10B ,  4F100DE01B ,  4F100EH46B ,  4F100EH46C ,  4F100EJ86B ,  4F100GB31 ,  4F100GB90 ,  4F100JB05B ,  4F100JD20 ,  4F100JM01B ,  4F100JN06A ,  4J038EA011 ,  4J038HA236 ,  4J038HA446 ,  4J038JC33 ,  4J038KA08 ,  4J038MA10 ,  4J038NA01 ,  4J038NA06 ,  4J038PA07 ,  4J038PB05 ,  4J038PC08
引用特許:
審査官引用 (4件)
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