特許

J-GLOBAL ID：201503016462103848

処理装置および方法

発明者： 佐藤 有紀
出願人/特許権者： 株式会社共立
代理人 (2件)： 今井 彰 ,  斉藤 翼
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-129053
公開番号（公開出願番号）：特開2015-157230
出願日： 2012年06月06日
公開日（公表日）： 2015年09月03日
要約：

【課題】PFCガスなどを処理できる装置を提供する。【解決手段】処理対象のガスを通過させる触媒層と、触媒層にバイアス電圧を印加する電圧供給ユニットとを有する処理装置を提供する。この処理装置は、処理対象のガスに紫外線を照射する照射ユニットを有してもよい。照射ユニットは真空紫外線の供給源を備えていることが望ましい。また、触媒層は多孔構造、典型的にはハニカム構造の白金触媒であり、内部に粒状の消石灰が充填された層を含むことが望ましい。【選択図】図3

請求項（抜粋）：

処理対象のガスを通過させる触媒層と、 前記触媒層にバイアス電圧を印加する電圧供給ユニットとを有する処理装置。

IPC (6件)：

B01J 19/08 ,  B01J 19/12 ,  B01D 53/68 ,  B01D 53/14 ,  B01D 53/86 ,  B01J 35/02

FI (9件)：

B01J19/08 Z ,  B01J19/12 C ,  B01J19/08 E ,  B01D53/34 134C ,  B01D53/14 A ,  B01D53/36 B ,  B01D53/36 J ,  B01D53/36 G ,  B01J35/02 J

Fターム (54件)：

4D002AA22 ,  4D002AC10 ,  4D002BA03 ,  4D002BA05 ,  4D002BA09 ,  4D002CA20 ,  4D002DA05 ,  4D002DA12 ,  4D002DA70 ,  4D002FA02 ,  4D020AA10 ,  4D020BA02 ,  4D020BA08 ,  4D020BB01 ,  4D020CA01 ,  4D020CD03 ,  4D048AC05 ,  4D048BA02Y ,  4D048BA30Y ,  4D048BA50Y ,  4D048BB03 ,  4D048EA01 ,  4D048EA02 ,  4G075AA03 ,  4G075AA37 ,  4G075BA04 ,  4G075BA05 ,  4G075BB04 ,  4G075BD01 ,  4G075BD14 ,  4G075CA14 ,  4G075CA33 ,  4G075CA47 ,  4G075CA54 ,  4G075CA57 ,  4G075DA01 ,  4G075DA02 ,  4G075EB01 ,  4G075EB33 ,  4G075EB41 ,  4G075FA14 ,  4G169AA03 ,  4G169BA48A ,  4G169BB05A ,  4G169BC09A ,  4G169BC75A ,  4G169CA02 ,  4G169CA03 ,  4G169CA15 ,  4G169CA19 ,  4G169DA06 ,  4G169EA08 ,  4G169HA01 ,  4G169HF02