特許
J-GLOBAL ID：201503016506850068
描画装置、描画方法及びプログラム
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
木村 満
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP2012063098
公開番号（公開出願番号）：WO2012-165238
出願日： 2012年05月22日
公開日（公表日）： 2012年12月06日
要約：
描画装置は、複数の画素からなる画面に描画され、画面上の2点によって規定される線の線幅に応じて、2点を端点とする線分に対する補間範囲を規定する。また、描画装置は、画素が補間範囲に含まれるか否かを判断する。そして、描画装置は、線分上の画素と、補間範囲に含まれると判断された画素とによる線を描画する。このため、描画装置は、線幅に関する情報のみに基づいて、線を描画するための画素を特定することが可能となる。したがって、描画処理の際に取り扱う情報が少なくなり、描画処理を高速に行うことができる。また、描画処理を行うために予め用意しておく情報が少なくてすむので、装置の小型化を図ることができる。
請求項（抜粋）：
複数の画素からなる画面に、2点によって規定される線を描画する描画装置であって、
前記線の線幅に応じて、前記2点を端点とする線分に対する補間範囲を規定する補間範囲規定手段と、
前記画素が、前記補間範囲に含まれるか否かを判断する判断手段と、
前記線分上の画素と、前記補間範囲に含まれると判断された画素とによる線を描画する描画手段と、
を備える描画装置。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (2件)：
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