露光描画装置、プログラム及び露光描画方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：中島淳 , 加藤和詳 , 福田浩志
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-039185
公開番号（公開出願番号）：特開2013-175599
特許番号：特許第5797582号
出願日： 2012年02月24日
公開日（公表日）： 2013年09月05日
請求項（抜粋）：

【請求項1】被露光基板を露光することにより回路パターンを描画する露光手段と、露光描画装置内の微粒子の粒子数を計数する計数手段と、前記露光手段による露光処理中に前記計数手段により計数された粒子数が、前記回路パターンのパターンに関するサイズに基づいて定められた閾値以上であるか否かを判定する判定手段と、前記判定手段により閾値以上であると判定された場合に、前記被露光基板に対して予め定められた情報を付加する付加手段と、を備えた露光描画装置。

IPC (2件)：