リソグラフィ方法及び装置

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：稲葉良幸 , 大貫敏史
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-257658
公開番号（公開出願番号）：特開2013-123048
特許番号：特許第5646580号
出願日： 2012年11月26日
公開日（公表日）： 2013年06月20日
請求項（抜粋）：

【請求項1】投影システムを使用してパターニングデバイスから基板上にパターンを投影する方法であって、前記投影システム内の光位相調整装置を使用して、前記パターンのアシストフィーチャから回折した放射に位相修正を施し、該位相修正が前記基板上のレジスト内に露光されるアシストフィーチャ像のサイズを縮小するか又は前記基板上の前記レジスト内の前記アシストフィーチャ像の印刷を防止する一方、前記アシストフィーチャ像による前記パターンの機能フィーチャの像強化への貢献を維持するように作用し、前記位相修正は、レジストの閾値を超えないように前記アシストフィーチャから回折した前記放射の前記基板でのコントラストを低減する、方法。

IPC (3件)：