特許
J-GLOBAL ID：201503016685283473

冷却型成分除去サイクロン装置

発明者：
大川 智雄

大川 智雄 について


出願人/特許権者：
集塵装置株式会社

集塵装置株式会社 について


代理人 (1件)： 工藤 一郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-005652
公開番号（公開出願番号）：特開2015-134306
出願日： 2014年01月16日
公開日（公表日）： 2015年07月27日
要約：
【課題】従来の冷却型のサイクロン装置に油蒸気をそのまま導入した場合には、サイクロン装置の外周に付した水冷ジャケットによる冷却作用では、粒子状の油蒸気を効率よく分離回収するのに十分な遠心力を受ける程の粒径することができず、油成分を十分に回収することはできないという課題があった。【解決手段】上記課題を解決するために、ガス中に含まれる成分をガスを冷却することで液化して抽出し、ガス中から除去する冷却型成分除去サイクロン装置であって、サイクロン本体と、サイクロン本体の内壁面を冷却する冷却部と、ガス導入部と、内壁面にて冷却されることで液化した液化成分をガスから除去し回収する回収部と、前記ガス導入部から導入するガスを所定温度以下に制御するガス温度制御部と、前記液化成分を除去された除去後ガスを排出する除去後ガス排出部と、からなる冷却型成分除去サイクロン装置などを提供する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
ガス中に含まれる成分をガスを冷却することで液化して抽出し、ガス中から除去する冷却型成分除去サイクロン装置であって、 サイクロン本体と、 サイクロン本体の内壁面を冷却する冷却部と、 ガス導入部と、 内壁面にて冷却されることで液化した液化成分をガスから除去し回収する回収部と、 前記ガス導入部から導入するガスを所定温度以下に制御するガス温度制御部と、 前記液化成分を除去された除去後ガスを排出する除去後ガス排出部と、 からなる冷却型成分除去サイクロン装置。
IPC (4件)：
B04C 5/20 ,  B04C 5/04 ,  B01D 45/12 ,  B01D 5/00
FI (4件)：
B04C5/20 ,  B04C5/04 ,  B01D45/12 ,  B01D5/00 Z
Fターム (21件)：
4D031AC04 ,  4D031BB04 ,  4D031EA01 ,  4D053AA01 ,  4D053AB01 ,  4D053BA01 ,  4D053BB02 ,  4D053BC01 ,  4D053BD04 ,  4D053CF01 ,  4D053CF02 ,  4D053DA03 ,  4D076AA13 ,  4D076AA24 ,  4D076BC06 ,  4D076BC27 ,  4D076CD27 ,  4D076FA03 ,  4D076FA20 ,  4D076HA03 ,  4D076JA02
引用特許：
審査官引用 (3件)

前のページに戻る

TOP

BOTTOM