特許
J-GLOBAL ID:201503017276188490

含窒素複素環化合物の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件): 佐々木 一也 ,  成瀬 勝夫 ,  中村 智廣
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2014-047821
公開番号(公開出願番号):特開2015-172008
出願日: 2014年03月11日
公開日(公表日): 2015年10月01日
要約:
【課題】医薬、農薬、合成樹脂の添加剤等の多くの分野で合成中間体等として有用な含窒素複素環化合物を、容易にかつ収率良く製造できる化合物の製造方法の提供。【解決手段】式(1)で表わされるオルト置換アジ化ベンゼン誘導体を、還元剤の存在下に二酸化炭素と反応させ、式(2)で表わされる化合物を得る製造方法。〔RはH及び/又は置換基;Aは分子内環化可能基;Bは2価のC,N,Oの結合基〕【選択図】なし
請求項(抜粋):
下記一般式(1)
IPC (1件):
C07D 265/18
FI (1件):
C07D265/18
Fターム (9件):
4C056AA02 ,  4C056AB01 ,  4C056AC02 ,  4C056AD03 ,  4C056AE04 ,  4C056AF01 ,  4C056DA01 ,  4C056DB04 ,  4C056DC01
引用特許:
出願人引用 (2件) 審査官引用 (2件)
引用文献:
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