特許
J-GLOBAL ID：201503017959056734

原子層堆積法による基板ウェブのコーティング

発明者：
リンドフォース スヴェン

リンドフォース スヴェン について


出願人/特許権者：
ピコサン オーワイ

ピコサン オーワイ について


代理人 (1件)： 川守田 光紀
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2015-516654
公開番号（公開出願番号）：特表2015-525298
出願日： 2012年06月15日
公開日（公表日）： 2015年09月03日
要約：
本発明の実施例によれば、移動する基板ウェブを原子層堆積反応器の反応空間内に導入し、前記反応空間内に反復パターンを有する前記基板ウェブのトラックを形成し、前記基板ウェブを前記反応空間内で時間的に分断された前駆体パルスに暴露することで、逐次的な自己飽和性表面反応により、材料を上記基板ウェブに堆積させることを含む方法を提供する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
移動する基板ウェブを原子層堆積反応器の反応空間内に導入し、 前記反応空間内に反復パターンを有する前記基板ウェブのトラックを形成し、 前記基板ウェブを前記反応空間内で時間的に分断された前駆体パルスに暴露することで、逐次的な自己飽和性表面反応により、材料を上記基板ウェブに堆積させる、 ことを特徴とする、方法。
IPC (2件)：
C23C 16/455 ,  C23C 16/44
FI (2件)：
C23C16/455 ,  C23C16/44 F
Fターム (15件)：
4K030AA05 ,  4K030AA11 ,  4K030AA14 ,  4K030AA18 ,  4K030BA47 ,  4K030BA50 ,  4K030CA02 ,  4K030CA17 ,  4K030EA04 ,  4K030EA11 ,  4K030FA10 ,  4K030GA14 ,  4K030HA01 ,  4K030KA08 ,  4K030KA41
引用特許：
審査官引用 (5件)
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