特許
J-GLOBAL ID：201503018063415189

プラグフロー形成方法、及び、これを利用する細胞培養装置

発明者：
石井 浩介

石井 浩介 について


出願人/特許権者：
株式会社IHI

株式会社IHI について


代理人 (2件)： 大賀 眞司 ,  百本 宏之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-160879
公開番号（公開出願番号）：特開2015-142550
出願日： 2014年08月06日
公開日（公表日）： 2015年08月06日
要約：
【課題】水平面内に於ける一定流速の流れを形成可能な細胞培養装置を提供する。【解決手段】水平断面積が上方に向って漸次増大する培養槽3と、その下端部に設けられた球体16と、前記下端部から培地2を供給する液体供給装置とを有し、培養槽の壁面に沿って上昇する培地の流れを形成するとともに、培養槽の中心部を上昇する培地の流れを抑制し、培養槽内にプラグフローを形成する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
水平断面積が上方に向って増加する形状の槽に供給される液体に周回上昇流を形成させることによって、当該槽内で前記液体のプラグフローを形成するプラグフロー形成方法。
IPC (2件)：
C12M 1/00 ,  C12M 1/02
FI (2件)：
C12M1/00 A ,  C12M1/02
Fターム (7件)：
4B029AA02 ,  4B029BB11 ,  4B029CC01 ,  4B029DB17 ,  4B029DF08 ,  4B029DF09 ,  4B029DG06
引用特許：
審査官引用 (4件)
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