特許
J-GLOBAL ID:201503018449944215
通常開裂不可能な直接プロセス残渣からのオルガノハロシランモノマーの合成
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (2件):
古谷 聡
, 西山 清春
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2014-550363
公開番号(公開出願番号):特表2015-509087
出願日: 2012年12月20日
公開日(公表日): 2015年03月26日
要約:
直接プロセス残渣の従来型の塩化水素化において開裂しないテトラオルガノジハロジシランおよび他の化合物からオルガノハロシランモノマーを合成する触媒によるプロセスがここに開示される。該プロセスは、(1)一つもしくはそれ以上の複素環アミンおよび/もしくは一つもしくはそれ以上の複素環アンモニウムハライド、ならびに(2)一つもしくはそれ以上の第四級15族オニウム化合物を含む触媒を用いることを特徴とする。
請求項(抜粋):
高沸点残渣からオルガノハロシランモノマー組成物を作製する触媒によるプロセスであって、
(A)(1)一つもしくはそれ以上の複素環アミンおよび/もしくは一つもしくはそれ以上の複素環アンモニウムハライド、ならびに(2)一つもしくはそれ以上の第四級15族オニウム化合物を含む触媒の存在下で、
任意選択でオルガノハライドおよび/もしくは水素ハライドおよび/もしくは不活性ガスの存在下で、
大気圧または大気圧より高い圧において、
約75°Cから約300°Cの範囲の温度で、
高沸点残渣を加熱して高沸点残渣をオルガノハロシランモノマー組成物へと転換するステップであって、
ここでオルガノハロシランモノマー組成物が、R1SiHX2、R12SiHX、R12SiX2およびR13SiX〔式中、R1は芳香族、脂肪族、アルカリールもしくは脂環式の、一価のヒドロカルビル基であり、Xはフッ素、塩素、臭素およびヨウ素からなる群より選択されるハロゲン原子である〕からなる群より選択される一般式を持つ少なくとも一つのオルガノハロシランモノマーを含む、ステップ、ならびに
(B)任意選択で触媒を回収するステップを含み、
ここで、高沸点残渣が(1)カーボシラン、オルガノハロポリシラン、ヘキサオルガノジシラン、ペンタオルガノハロジシランおよびテトラオルガノジハロジシランの少なくとも一つを含む開裂不可能な成分、ならびに(2)ジオルガノテトラハロジシランおよびトリオルガノトリハロジシランの少なくとも一つを含む開裂可能な任意選択の成分を含み、もし存在するならこの開裂可能な成分は開裂不可能な成分よりも少ない濃度を持つという条件であり、
そしてここで、第四級15族オニウム化合物は、一般式R4Q+X-であって、式中、それぞれのRが独立して、1から30個の炭素原子のアルキル、シクロアルキル、アリールもしくはアルカリール基であり、Qは、リン、ヒ素、アンチモン、ビスマスであり、XはF、Cl、BrおよびIからなる群より選択されるハライドである、プロセス。
IPC (2件):
FI (2件):
C07F7/12 H
, B01J31/02 102Z
Fターム (29件):
4G169AA06
, 4G169BA21A
, 4G169BA21B
, 4G169BE28A
, 4G169BE28B
, 4G169BE33A
, 4G169BE33B
, 4G169BE38A
, 4G169BE38B
, 4G169CB35
, 4G169CB38
, 4G169DA02
, 4H039CA92
, 4H039CE90
, 4H049VN01
, 4H049VP01
, 4H049VQ12
, 4H049VR11
, 4H049VR21
, 4H049VR22
, 4H049VR23
, 4H049VR31
, 4H049VR32
, 4H049VR33
, 4H049VS76
, 4H049VT52
, 4H049VU36
, 4H049VV03
, 4H049VW02
引用特許:
出願人引用 (7件)
-
水素含有メチルクロルシランの製法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-228299
出願人:ワツカー-ケミーゲゼルシヤフトミツトベシユレンクテルハフツング
-
クロロシランの製造法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2004-226055
出願人:ジーイー・バイエル・シリコーンズ・ゲゼルシヤフト・ミツト・ベシユレンクテル・ハフツング・ウント・コンパニー・コマンジツトゲゼルシヤフト
-
特公昭34-000320
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審査官引用 (9件)
-
水素含有メチルクロルシランの製法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-228299
出願人:ワツカー-ケミーゲゼルシヤフトミツトベシユレンクテルハフツング
-
クロロシランの製造法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2004-226055
出願人:ジーイー・バイエル・シリコーンズ・ゲゼルシヤフト・ミツト・ベシユレンクテル・ハフツング・ウント・コンパニー・コマンジツトゲゼルシヤフト
-
特公昭34-000320
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引用文献:
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