特許

J-GLOBAL ID：201503018885723364

表面処理装置および表面処理基板の製造方法

発明者： 中根 崇 ,  西尾 良寛 ,  河合 義樹 ,  久田 晃禎 ,  尾関 高野 ,  内藤 充貴 ,  志知 豊哉
出願人/特許権者： イビデン株式会社
代理人 (1件)： 特許業務法人コスモス特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-147159
公開番号（公開出願番号）：特開2015-017315
出願日： 2013年07月15日
公開日（公表日）： 2015年01月29日
要約：

【課題】 基板における表面処理の対象面上に,処理液を良好に流動させることのできる表面処理装置および表面処理基板の製造方法を提供すること。【解決手段】 本発明の表面処理装置は,基板をその板面内方向に搬送しつつその表面に処理液を供給して表面処理を施す表面処理装置である。また,内部に基板を通すとともにその基板への表面処理が内部で行われる処理槽と,処理槽の内部に設けられ,基板の表面上へ噴射口より処理液を噴射する噴射部とを有する。さらに,噴射部の噴射口における処理液の噴射方向が,基板の板面に対して平行または斜めである。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

基板をその板面内方向に搬送しつつその表面に処理液を供給して表面処理を施す表面処理装置において, 内部に基板を通すとともにその基板への表面処理が内部で行われる処理槽と, 前記処理槽の内部に設けられ,基板の表面上へ噴射口より処理液を噴射する噴射部とを有し, 前記噴射部の噴射口における処理液の噴射方向が,基板の板面に対して平行または斜めであることを特徴とする表面処理装置。

IPC (3件)：

C23C 18/31 ,  H05K 3/42 ,  H05K 3/06

FI (4件)：

C23C18/31 E ,  H05K3/42 610B ,  H05K3/42 610A ,  H05K3/06 Q

Fターム (24件)：

4K022AA42 ,  4K022BA08 ,  4K022BA14 ,  4K022DA01 ,  4K022DB15 ,  4K022DB17 ,  4K022DB18 ,  4K022DB19 ,  5E317AA24 ,  5E317BB02 ,  5E317BB12 ,  5E317CC31 ,  5E317CC42 ,  5E317CD05 ,  5E317CD25 ,  5E317CD27 ,  5E317CD32 ,  5E317GG16 ,  5E339AB02 ,  5E339AC01 ,  5E339BC02 ,  5E339BE13 ,  5E339EE04 ,  5E339GG02