急速熱処理チャンバ用のランプ

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (6件)：辻居幸一 , 熊倉禎男 , 大塚文昭 , 西島孝喜 , 須田洋之 , 上杉浩
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-023295
公開番号（公開出願番号）：特開2012-124173
特許番号：特許第5755579号
出願日： 2012年02月06日
公開日（公表日）： 2012年06月28日
請求項（抜粋）：

【請求項1】一対のリードに取り付けられた少なくとも1つの放射発生フィラメントを包囲し、内面及び外面を有する電球と、前記一対のリードを受け入れるように構成されたランプベースと、少なくとも0.020インチ(0.0508cm)の壁厚を有し、前記ランプベースを囲む銅又はアルミニウムのスリーブであって、基板処理チャンバ内で少なくとも1100°Cまでの温度に基板を加熱するのに使用するよう適応された銅又はアルミニウムのスリーブと、前記銅又はアルミニウムのスリーブの内側に設けられ、少なくとも前記一対のリード、前記ランプペース、そして前記電球の一部を囲むポッティングコンパウンドと、を備え、熱を、前記ポッティングコンパウンドを囲む管の長さに沿って且つポッティングコンパウンドを通して流すようにしたことを特徴とするランプアセンブリ。

IPC (3件)：

H01K 1/46 ( 200 6.01) , F21V 23/00 ( 201 5.01) , F21Y 101/00 ( 200 6.01)

FI (3件)：

H01K 1/46 Z , F21V 23/00 160 , F21Y 101:00 100

引用特許：

出願人引用 (4件)

熱処理装置及び熱処理方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-293992 出願人：株式会社日本自動車部品総合研究所
ランプユニット
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-022045 出願人：ウシオ電機株式会社
基板加熱装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-342953 出願人：富士電機株式会社

全件表示

審査官引用 (4件)

熱処理装置及び熱処理方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-293992 出願人：株式会社日本自動車部品総合研究所
ランプユニット
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-022045 出願人：ウシオ電機株式会社
基板加熱装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-342953 出願人：富士電機株式会社

全件表示

前のページに戻る