特許
J-GLOBAL ID：201503019518816221

化粧料

発明者：
松木 智昭

松木 智昭 について

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石井 聖一

石井 聖一 について

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岩下 暁彦

岩下 暁彦 について

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永井 直

永井 直 について

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朝重 直樹

朝重 直樹 について


出願人/特許権者：
三井化学株式会社

三井化学株式会社 について


代理人 (1件)： 特許業務法人SSINPAT
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-091457
公開番号（公開出願番号）：特開2013-220992
特許番号：特許第5815457号
出願日： 2012年04月12日
公開日（公表日）： 2013年10月28日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 下記(i)〜(iv)を満たす末端にビニル基を有するエチレン系重合体(A)と、下記式(2e)で表されるハイドロジェンシリコーン(B)を付加反応させることにより得られ、(A)-(B)-(A)のトリブロック構造を有する、直鎖状のブロック共重合体(C)を含有することを特徴とする化粧料。 (i)エチレン単独重合体または、エチレンと炭素数3〜12のα-オレフィンから選ばれる少なくとも1種のオレフィンとを共重合して得られる共重合体であり、 (ii)分子の片末端にビニル基を有し、1分子あたりのビニル基含有量が0.8〜1.0個であり、 (iii)融点が70〜136°Cであり、 (iv)重量平均分子量が1000〜10,000である。 HSi(CH3)2O-(-Si(CH3)2-O-)i-Si(CH3)2H・・・(2e) (式(2e)中、iは1以上の整数であり、上限は1000である。また、式(2e)中、メチル基の一部または全部がエチル基、プロピル基、フェニル基、トリフロロプロピル基で置換されていてもよい)。
IPC (4件)：
A61K 8/89 ( 200 6.01) ,  A61K 8/90 ( 200 6.01) ,  A61Q 1/00 ( 200 6.01) ,  A61Q 19/00 ( 200 6.01)
FI (4件)：
A61K 8/89 ,  A61K 8/90 ,  A61Q 1/00 ,  A61Q 19/00
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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